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影响CMP用纳米Al_2O_3磨粒粒度均一性的因素及其机理 被引量：3
1
作者 何捍卫 胡岳华 +1 位作者 黄可龙 徐竞 《矿冶工程》 CAS CSCD 北大核心 2002年第1期42-45,共4页
系统地研究了制备CMP用纳米γ Al2 O3 磨粒时影响粒度及其均一性的各种因素 ,并对其机理进行了探讨。确定了控制粒度及粒度均一性的最佳条件 ,制得了均一性好的γ Al2 O3
关键词 CMP 粒度均一性 化学机械抛光技术 氧化铝磨粒
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