CRT荫罩制造技术及其在平板显示等领域的应用

CRT荫罩制造工艺的基础技术是光刻腐蚀。将应用于制造荫罩的精密光刻精细腐蚀技术引伸应用到平板显示、微电子、微机械等领域,可以制作出高精度OLED金属掩膜版,LCD、PDP光学掩膜版等,使这一非常成熟的工艺焕发出新的活力。

光课机隔振试验平台定位系统的轨迹规划

介绍了微制造隔振试验平台定位系统运动轨迹的规划。为了减小运动部件加减速过程中对整个平台的冲击,在进行运动轨迹规划时,采用了S形曲线对定位系统的运动轨迹进行了平滑处理,有效降低了运动部件对系统的冲击,有利于系统的减振。