神光Ⅲ精密光学元件表面广义洁净度检测

根据神光Ⅲ实验样机里的精密光学元件表面实际特点,提出了综合考虑其表面疵病和颗粒残留物的广义洁净度概念及其检测方法,阐述了广义洁净度的含义并提出了具体计算过程。研究了适合多种元件尺寸的检测装置,并利用图像里面不同组织具有不同灰度级实现图像分割,通过提取检测对象的几何、灰度及变换域空间的特征,构成待检测向量,采用支持向量机(SVM)方法进行识别。广义洁净度概念的提出和实现过程,对实际监测精密光学元件表面的质量并分析其损化变迁过程具有重要意义。

精密光学元件表面中频误差的提取研究

能否准确对精密光学元件表面评价势必影响着光学元件研制与生产,其中中频误差的提取逐渐显得重要。提出了利用双树复小波变换(DT-CWT)对精密光学元件表面提取信号进行多尺度分解,以定义的均方根波长确定其双树复小波分解次数,进行中频误差的提取与识别。此方法应用于精磨和镀膜的精密光学元件表面中,实验证实该方法不仅可以应用于一维信号的提取,同样也适合三维表面中频波段面形误差的提取。