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1:1精密掩模的研制(2~3μm±0.15μm)
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作者 李立芳 《微电子技术》 1996年第3期53-58,F003,共7页
关键词 掩模 IC 精密掩模
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用电子束工艺反转制造1:1精密掩模的工艺技术研究
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作者 赵丽新 《微电子技术》 1999年第4期1-3,共3页
本文主要描述了用电子束工艺反转技术制造1:1精密掩模的新方法,给出了从基本原理入手来确定工艺流程和选定工艺条件的过程,并给出制作实例说明了该项技术所取得的经济效益和社会效益。
关键词 工艺反转技术 精密掩模 正胶工艺
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