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1:1精密掩模的研制(2~3μm±0.15μm)
1
作者
李立芳
《微电子技术》
1996年第3期53-58,F003,共7页
关键词
掩模
IC
精密掩模
下载PDF
职称材料
用电子束工艺反转制造1:1精密掩模的工艺技术研究
2
作者
赵丽新
《微电子技术》
1999年第4期1-3,共3页
本文主要描述了用电子束工艺反转技术制造1:1精密掩模的新方法,给出了从基本原理入手来确定工艺流程和选定工艺条件的过程,并给出制作实例说明了该项技术所取得的经济效益和社会效益。
关键词
工艺反转技术
精密掩模
正胶工艺
下载PDF
职称材料
题名
1:1精密掩模的研制(2~3μm±0.15μm)
1
作者
李立芳
机构
中国华晶电子集团公司掩模中心
出处
《微电子技术》
1996年第3期53-58,F003,共7页
关键词
掩模
IC
精密掩模
分类号
TN405.7 [电子电信—微电子学与固体电子学]
下载PDF
职称材料
题名
用电子束工艺反转制造1:1精密掩模的工艺技术研究
2
作者
赵丽新
机构
中国华晶电子集团公司掩模工厂
出处
《微电子技术》
1999年第4期1-3,共3页
文摘
本文主要描述了用电子束工艺反转技术制造1:1精密掩模的新方法,给出了从基本原理入手来确定工艺流程和选定工艺条件的过程,并给出制作实例说明了该项技术所取得的经济效益和社会效益。
关键词
工艺反转技术
精密掩模
正胶工艺
Keywords
Process reverse techniques
Precise mask
Positive photoresist techniques
分类号
TN4 [电子电信—微电子学与固体电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
1:1精密掩模的研制(2~3μm±0.15μm)
李立芳
《微电子技术》
1996
0
下载PDF
职称材料
2
用电子束工艺反转制造1:1精密掩模的工艺技术研究
赵丽新
《微电子技术》
1999
0
下载PDF
职称材料
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