精密玻璃釉电位器生产线关键设备研制

主要介绍了精密玻璃釉电位器生产线5种关键设备的用途、结构、性能指标和工作原理以 及关键技术。

精密玻璃生产线配料控制技术探讨

随着我国的工业化进程不断地加快,我国的控制理论、通讯技术以及电子技术也在不断地发展当中。而那种传统的配料控制系统也在逐渐的被我们的信息化和自动化所取代。

浅谈精密玻璃生产线的配料控制

近些年,玻璃配料技术不断进步,传统的配料技术由于精度低、操作复杂、稳定性差,已经逐渐被现代化的配料技术所取代,但是在现代化配料控制中,仍然需要注意各个环节的操作控制,以保证配料的准确性。本文就精密玻璃生产线的配料控制进行了详细的讨论。

关于精密玻璃自动生产线实时管理系统分析

随着信息革命浪潮的深入,精密玻璃的生产得到了长足的发展。精密玻璃是构成显示屏的重要组成部件。将自动生产线实时管理系统应于精密玻璃的生产上,可以有效的提高生产线的自动化水平,降低生产成本。本文主要对精密玻璃自动化生产线实时管理系统的的总体作用、数据采集、生产控制等方面的作用进行分析讨论。

精密模压模具用类金刚石薄膜表面失效与恢复

为了研究精密模压模具用类金刚石(DLC)薄膜的表面失效过程,探索恢复失效薄膜表面性能的方法,用磁过滤阴极电弧设备在硬质合金模具上制备无氢类金刚石ta-C薄膜,在精密模压机上使用该模具对玻璃开展模压。通过拉曼光谱检测经历不同次数模压薄膜结构变化情况,使用维氏硬度计、白光干涉仪检测模压前和多轮模压后ta-C薄膜的表面状态差异,从而评价薄膜在精密模压过程中的失效方式。结果表明:随着模压次数的增加,ta-C薄膜拉曼特征峰比值I_(D)/I_(G)从0.66上升到超过2.67,发生四面体配位sp^(3)向三配位键合结构sp^(2)的相转变。ta-C薄膜的硬度经模压后下降了15.5%,表面粗糙度由0.6 nm增大到25.8 nm,且膜层的整体均匀性下降。薄膜失效异常位置分析揭示了相转变主要发生在薄膜外表面,薄膜内部结构在模压过程中仍保持相对稳定,通过氧离子刻蚀可以使模压后的ta-C薄膜表面状态恢复。

水玻璃精密铸造绿色发展共识与倡议

为加快推进水玻璃精铸工艺转型升级,促进新时期下精铸行业及企业良性发展,提出了当前我国水玻璃精铸工艺淘汰氯盐硬化发展共识目标和需要开展的重点工作,以此倡导企业加快淘汰落后技术与装备,强化行业转型与技术创新,共同促进全行业健康有序发展。

玻璃精密模压成形的研究进展

玻璃精密模压成形是一种高效率、绿色环保的先进光学元件制造技术,近年来得到了飞速发展。本文首先介绍了光学元件的需求与种类,提出玻璃精密模压成形技术存在的问题。综述了国内外近年来精密模压成形光学透镜的重要研究进展,其中包括光学玻璃材料、模具材料与涂层、模具加工、模压过程仿真以及各种参数对透镜质量的影响。阐述了光学模压成形元件的坯料、镀膜技术和冷加工技术、成形元件的残余应力分布以及折射率、模具与玻璃间摩擦效应、模具的补偿技术、成形透镜质量的预测、模压技术的其他应用等。最后,对未来光学玻璃精密模压成形趋势进行了预测。

超精密大尺寸光学玻璃平面磨床的研制

光学玻璃广泛应用于激光技术、光电通讯、航空航天以及国防工业等领域。上海机床厂有限公司开发了超精密大尺寸光学玻璃平面磨床,对该磨床的结构及相关技术进行了介绍。

观测表面反射像检测精密薄板玻璃翘曲度的理论分析

分析了一种高效简便测试精密薄板玻璃翘曲度的方法。这种方法是通过观测精密薄板玻璃和基准平面反射同一参考物的像，检测两个像分离的程度来判定精密薄板玻璃的翘曲度。通过对精密薄板玻璃表面变形形态进行抽象、模拟和近似处理，从理论上推导出精密薄板玻璃翘曲度 Ｗ ≤０ ．００３ ，样品尺寸在２００ｍ ｍ ～５００ｍ ｍ 的条件下，参考物直径与测量装置结构尺寸和翘曲度之间的关系式。

非球面微柱面透镜阵列精密玻璃模压仿真研究

为了实现精密玻璃模压过程中石英玻璃应力状态的准确预测以及工艺参数的优化,进行了非球面微柱面透镜阵列精密玻璃模压的有限元仿真研究。首先,进行了石英玻璃最小单轴蠕变测试;然后,对石英玻璃黏弹参数进行了有限元仿真验证;最后,通过有限元仿真,分析了多个模压工艺参数对最大应力的影响,获得了优化的工艺参数。建立了石英玻璃黏弹性本构模型,获得了其时温等效模型,并利用有限元仿真验证了模型的准确性。对非球面微柱面透镜阵列模压成形参数进行了有效优化,在下压量为1.5 mm的前提下,保压后的透镜最大应力为0.9693 MPa。研究结果为石英玻璃非球面微柱面透镜阵列精密模压实验提供了理论参考。

玻璃光学元件精密模压成形技术

介绍了玻璃光学元件精密模压成形技术的原理、玻璃材料、模具制造、模具表面镀膜、结合有限元仿真的模压工艺优化和模压成形设备等核心技术的研究进展,并讨论了当前存在的问题。通过探讨玻璃模压成形技术在自由曲面、微结构、衍射结构表面和晶圆阵列等光学元件中的应用现状,对玻璃元件精密模压成形技术的发展趋势和挑战进行了展望。

CrWN涂层中W元素含量对涂层纳米硬度和热稳定性的影响

目的探究氮气退火环境下不同W含量Cr WN涂层微结构、纳米硬度及热稳定性能的演变规律。方法采用等离子增强磁控溅射技术,制备不同W含量的Cr WN涂层,利用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、透射电子显微镜(TEM)、纳米压痕、原子力显微镜(AFM)等分析方法,系统研究退火前后涂层的微结构、表面质量、尺寸精度、纳米力学与热稳定性能。结果Cr WN涂层由面心立方结构的Cr N+W_(2)N相组成,Cr N层与W2N层交替沉积,并具有典型共格生长。随涂层中W含量的增加,涂层硬度从12.9 GPa增加至15.5 GPa,表面粗糙度降低,并趋于稳定。经过氮气环境退火后,随涂层中W含量的增加,与气氛中的微量杂质气体反应加剧,涂层硬度由13.5 GPa降低至5.2 GPa,表面氧化层WO3厚度增加,并导致涂层表面粗糙度和厚度增加。结论Cr WN涂层具有优异的表面质量及纳米力学性能,氮气退火过程中,氧化侵蚀反应导致Cr WN涂层表面粗化、体积膨胀和力学降解。随涂层中W含量的增加,退火涂层表界面微结构损伤与性能退化效应加剧,氧化损伤是Cr WN涂层玻璃精密模压成形应用中需考虑的关键因素之一。因此,Cr WN涂层作为光学玻璃精密模压成形模具涂层使用时,应在高真空度或高纯惰性气体环境下工作。