精细X荧光光谱中伪峰剔除方法的研究

在高计数率背景下,采用数字慢三角成形处理算法的高性能硅漂移探测器X荧光光谱全能峰受到伪峰严重干扰。介绍了一种新型的剔除伪峰干扰的方法,详细阐述了该方法中数字三角形成形、信号甄别和伪峰判断等技术要点。以55Fe核素和岩石样品为实验对象,对比伪峰剔除前和剔除后得到的X荧光能谱,结果证明该方法能够较好地消除谱线图中的伪峰。因而,在精细X荧光能谱分析时,该方法能够提高能谱的峰背比和痕量元素的分析精确度。

掠入射荧光XAFS研究Pt超薄膜的局域结构

利用荧光 X 射线吸收精细结构（XAFS）技术研究了厚度为 3—105 nm 范围的分子束外延生长的 Pt 金属薄膜的局域结构。结果表明，30 nm 和 105 nm Pt 薄膜的 XAFS 结果与多晶 Pt 箔的相似，在径向结构函数图中的 2.61、3.80、4.63、5.43 ? 处出现第一、二、三和四配位壳层的配位峰，保持着 Pt 金属的面心立方结构特征。30 nm Pt 薄膜样品的结构参数：配位数 N＝11.9，键长 R＝2.77 ?，无序度σ2＝0.0055 ?2。3 nm 和 10 nmPt 超薄膜的径向结构函数曲线中的第一配位峰形状与 105 nm Pt 厚膜的相似，但强度明显降低，其结构参数分别为: N=10.1, R= 2.78 ?, σ2=0.0077 ?2；N=11.3, R= 2.77 ?, σ2=0.0061 ?2；同时其高壳层的配位峰近于消失，说明 3 nm 和 10 nm Pt 超薄膜的中程有序结构遭到较大影响，无序度明显增加。在 350—800oC 温度范围内生长的 105 nm Pt 薄膜，其局域结构近似于 Pt 金属晶体。