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非晶In-Ga-Zn-O沟道薄膜晶体管存储器研究
被引量:
1
1
作者
崔兴美
陈笋
丁士进
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2013年第7期481-486,共6页
非晶铟镓锌氧化物(a-IGZO)沟道薄膜晶体管存储器在先进系统面板领域具有重要的应用前景。首先阐明了a-IGZO材料在系统面板和柔性器件等应用中所具有的优势,然后对a-IGZO薄膜的制备方法及材料性能进行了归纳。最后对基于a-IGZO沟道薄膜...
非晶铟镓锌氧化物(a-IGZO)沟道薄膜晶体管存储器在先进系统面板领域具有重要的应用前景。首先阐明了a-IGZO材料在系统面板和柔性器件等应用中所具有的优势,然后对a-IGZO薄膜的制备方法及材料性能进行了归纳。最后对基于a-IGZO沟道薄膜晶体管存储器的结构、编程和擦除特性等文献报道进行了总结,重点讨论了该类存储器在通常情况下擦除效率低的原因及其改善措施。因此,对今后开发高性能a-IGZO沟道薄膜晶体管存储器具有很好的指导意义。
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关键词
非晶铟镓锌氧化物(a-IGZO)
薄膜晶体管(TFT)
存储器
系统
面板
(
sop
)
柔性器件
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职称材料
题名
非晶In-Ga-Zn-O沟道薄膜晶体管存储器研究
被引量:
1
1
作者
崔兴美
陈笋
丁士进
机构
复旦大学微电子学院专用集成电路与系统国家重点实验室
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2013年第7期481-486,共6页
基金
国家自然科学基金资助项目(61274088)
文摘
非晶铟镓锌氧化物(a-IGZO)沟道薄膜晶体管存储器在先进系统面板领域具有重要的应用前景。首先阐明了a-IGZO材料在系统面板和柔性器件等应用中所具有的优势,然后对a-IGZO薄膜的制备方法及材料性能进行了归纳。最后对基于a-IGZO沟道薄膜晶体管存储器的结构、编程和擦除特性等文献报道进行了总结,重点讨论了该类存储器在通常情况下擦除效率低的原因及其改善措施。因此,对今后开发高性能a-IGZO沟道薄膜晶体管存储器具有很好的指导意义。
关键词
非晶铟镓锌氧化物(a-IGZO)
薄膜晶体管(TFT)
存储器
系统
面板
(
sop
)
柔性器件
Keywords
amorphous indium gallium zinc oxide (a-IGZO)
thin film transistor (TFT)
memory
system on panel (
sop
)
flexible device
分类号
TN304.26 [电子电信—物理电子学]
TN321.5 [电子电信—物理电子学]
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作者
出处
发文年
被引量
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1
非晶In-Ga-Zn-O沟道薄膜晶体管存储器研究
崔兴美
陈笋
丁士进
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2013
1
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