高激光损伤阈值266nm紫外增透膜研究

为了研制高激光性能紫外增透膜,分别使用HfO2/SiO2和Al2O3/MgF2两种高低折射率材料组合,采用物理气相沉积技术,设计制备了266 nm增透膜;分析测试了不同材料所组成的增透膜的剩余反射率、粗糙度、光学损耗、界面电场强度和激光诱导损伤阈值等特性。研究结果表明,两组不同膜料制备的266 nm增透膜都能达到剩余反射率<0.2%的要求,且激光诱导损伤阈值都大于5 J/cm(2266 nm,7 ns)。

紫外激光器增透膜的制备

依据薄膜光学的基本理论,选取Al_2O_3与MgF_2作为薄膜材料,在JGS1基底上,采用离子源辅助沉积的真空镀膜方法,制备出工作波段在240nm～280nm间,具有高透射率大于99.5%的光学薄膜。通过调整工艺参数和膜系设计,改善了薄膜的激光损伤阈值。