基于解析分析对比了大尺寸与深亚微米尺度下静态随机存取存储器(static random access memory,SRAM)单元单粒子翻转敏感性的表征值及引入累积辐照后的变化趋势.同时借助仿真模拟计算了0.18μm工艺对应的六管SRAM单元在对应不同累积剂量...基于解析分析对比了大尺寸与深亚微米尺度下静态随机存取存储器(static random access memory,SRAM)单元单粒子翻转敏感性的表征值及引入累积辐照后的变化趋势.同时借助仿真模拟计算了0.18μm工艺对应的六管SRAM单元在对应不同累积剂量情况下,离子分别入射不同中心单管时的电学响应变化,计算结果与解析分析所得推论相一致,即只有当累积辐照阶段与单粒子作用阶段存储相反数值时,SRAM单元的单粒子翻转敏感性才会增强.展开更多
文摘基于解析分析对比了大尺寸与深亚微米尺度下静态随机存取存储器(static random access memory,SRAM)单元单粒子翻转敏感性的表征值及引入累积辐照后的变化趋势.同时借助仿真模拟计算了0.18μm工艺对应的六管SRAM单元在对应不同累积剂量情况下,离子分别入射不同中心单管时的电学响应变化,计算结果与解析分析所得推论相一致,即只有当累积辐照阶段与单粒子作用阶段存储相反数值时,SRAM单元的单粒子翻转敏感性才会增强.