期刊文献+
共找到1篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
氮化硅薄膜的等离子腐蚀及钝化性能研究 被引量:1
1
作者 程开富 《电子工业专用设备》 1997年第4期40-43,共4页
介绍在硅CCD多路传输器研制中,热壁LPCVD氮化硅钝化膜的等离子腐蚀及钝化性能。
关键词 热壁LPCVD 等离子腐蚀 氮化硅 红外信平面陈列
下载PDF
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部