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离子束增强沉积Si_3N_4/Si多层红外干涉滤波薄膜
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作者 江炳尧 张福民 +2 位作者 孙义林 陈酉善 柳襄怀 《材料研究学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第5期511-514,共4页
利用离子束增强沉积工艺，在硅基片上制备Si3N4／Si多层红外干涉滤波薄膜结果表明，N2+N的辅助轰击对于合成接近化学配比的Si3N4薄膜起了关键作用薄膜的折射率可达1.74～1.
关键词 红外干涉滤波膜 离子束增强沉积 薄膜
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