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约束刻蚀剂层技术对金属铝的微结构加工研究 被引量:6
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作者 蒋利民 黄选民 +1 位作者 田中群 田昭武 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2006年第8期1540-1544,共5页
采用约束刻蚀剂层技术,以亚硝酸钠为先驱物,通过电化学氧化产生刻蚀剂(硝酸)刻蚀铝,并以NaOH为捕捉剂,在电极模板上形成约束刻蚀剂层.在金属铝表面加工出梯型槽微结构,加工分辨率约为500 nm.通过测量表面氢离子浓度,对捕捉剂的约束效果... 采用约束刻蚀剂层技术,以亚硝酸钠为先驱物,通过电化学氧化产生刻蚀剂(硝酸)刻蚀铝,并以NaOH为捕捉剂,在电极模板上形成约束刻蚀剂层.在金属铝表面加工出梯型槽微结构,加工分辨率约为500 nm.通过测量表面氢离子浓度,对捕捉剂的约束效果进行了分析. 展开更多
关键词 约束刻蚀层技术 微机电系统 微加工 电化学
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微圆盘电极技术测定表面化学微加工时的约束刻蚀剂浓度分布 被引量:3
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作者 汤儆 马信洲 +5 位作者 何辉忠 张力 林密旋 曲东升 丁庆勇 孙立宁 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2006年第4期507-512,共6页
利用微圆盘电极技术,测定了KBr、L-胱氨酸和硫酸组成的刻蚀溶液体系中Pt电极表面电化学氧化产生的刻蚀剂Br2浓度分布,为约束刻蚀剂层技术(CELT)中刻蚀体系的选择和优化提供更直观的依据.GaAs表面CELT微加工实验证明了用微圆盘电极测得... 利用微圆盘电极技术,测定了KBr、L-胱氨酸和硫酸组成的刻蚀溶液体系中Pt电极表面电化学氧化产生的刻蚀剂Br2浓度分布,为约束刻蚀剂层技术(CELT)中刻蚀体系的选择和优化提供更直观的依据.GaAs表面CELT微加工实验证明了用微圆盘电极测得的表面刻蚀剂的浓度分布趋势与微加工实验所得到的结果一致. 展开更多
关键词 约束刻蚀层技术 微圆盘电极 L-胱氨酸 GAAS 浓度分布
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不同类型GaAs上应用约束刻蚀剂层技术进行电化学微加工 被引量:2
3
作者 汤儆 王文华 +1 位作者 庄金亮 崔晨 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2009年第8期1671-1677,共7页
应用约束刻蚀剂层技术(CELT)对GaAs进行电化学微加工.研究了刻蚀溶液体系中各组成的浓度比例、GaAs类型、掺杂以及阳极腐蚀过程对GaAs刻蚀加工过程的影响.循环伏安实验表明,Br-可以通过电化学反应生成Br2作为刻蚀剂,L-胱氨酸可作为有效... 应用约束刻蚀剂层技术(CELT)对GaAs进行电化学微加工.研究了刻蚀溶液体系中各组成的浓度比例、GaAs类型、掺杂以及阳极腐蚀过程对GaAs刻蚀加工过程的影响.循环伏安实验表明,Br-可以通过电化学反应生成Br2作为刻蚀剂,L-胱氨酸可作为有效的捕捉剂.CELT中刻蚀剂层被紧紧束缚于模板表面,模板和工件之间的距离小于刻蚀剂层的厚度时,刻蚀剂可以对GaAs进行加工.利用表面具有微凸半球阵列的导电模板,可以在不同类型GaAs上加工得到微孔阵列.实验结果表明:在相同刻蚀条件下,GaAs的加工分辨率与刻蚀体系中各组分的浓度比例有关,刻蚀结构的尺寸随着刻蚀剂与捕捉剂浓度比的增加而增大;在加工过程中,p-GaAs相对于n-GaAs和无掺杂GaAs受到阳极氧化过程的影响较为显著,p-GaAs表面易生成氧化物层,影响电化学微加工过程.X射线光电子能谱(XPS)和极化曲线实验也证明了这一点. 展开更多
关键词 阳极溶解 砷化镓 约束刻蚀层技术 刻蚀 捕捉
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利用约束刻蚀剂层技术提高硅的刻蚀分辨率(英文) 被引量:1
4
作者 祖延兵 谢雷 +4 位作者 毛秉伟 穆纪千 谢兆雄 田昭武 孙立宁 《电化学》 CAS CSCD 1997年第1期11-14,共4页
高分辨率刻蚀技术对于微机械及微电子器件的加工具有十分重要的意义,而硅是其中极为重要并占统制地位的材料。近年来,扫描电化学显微镜(SECM)用于表面加工的研究颇受注目。然而,SECM刻蚀分辨率往往因为刻蚀剂的横向扩散而... 高分辨率刻蚀技术对于微机械及微电子器件的加工具有十分重要的意义,而硅是其中极为重要并占统制地位的材料。近年来,扫描电化学显微镜(SECM)用于表面加工的研究颇受注目。然而,SECM刻蚀分辨率往往因为刻蚀剂的横向扩散而受到限制。最近,田昭武等提出的一种可进行高分辨率微加工的新方法——约束刻蚀剂层技术(CELT),可使刻蚀反应具有高度的距离敏感性,刻蚀分辨率得到极大改善。我们利用CELT技术刻蚀硅表面,以60μm及100μm直径微电极产生刻蚀剂Br2,刻蚀溶液中加入亚砷酸作为Br2的捕捉剂刻蚀得到的图案与所用微电极尺寸符合,直径分别约为60μm和100μm。与SECM方法得到的110μm和180μm分辨率相比,刻蚀分辨率得到大幅度提高。 展开更多
关键词 约束刻蚀 CELT 微电子学 刻蚀分辨率
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金属Cu表面三维齿状微图形的复制加工——约束刻蚀剂层技术 (CELT)的应用
5
作者 刘柱方 蒋利民 +8 位作者 汤儆 张力 田昭武 刘品宽 曲东升 孙立宁 叶雄英 周兆英 田中群 《微纳电子技术》 CAS 2003年第7期265-266,共2页
主要介绍了一种Cu的CELT加工的化学刻蚀体系和捕捉体系 ,并通过控制刻蚀时间、刻蚀电流、刻蚀剂浓度、捕捉剂浓度等实验参数和优化电化学模板的制作工艺 ,以规整的齿状结构为模板 ,在Cu的表面实现了三维微结构的复制加工 ,得到了与齿状... 主要介绍了一种Cu的CELT加工的化学刻蚀体系和捕捉体系 ,并通过控制刻蚀时间、刻蚀电流、刻蚀剂浓度、捕捉剂浓度等实验参数和优化电化学模板的制作工艺 ,以规整的齿状结构为模板 ,在Cu的表面实现了三维微结构的复制加工 ,得到了与齿状结构模板互补的三维微结构 ,用SEM和AFM对实验结果进行了表征 ,表征结果证明约束刻蚀剂层技术在金属三维加工方面的可行性和潜在优势。金属Cu由于具有优良的导热导电性能以及很好的延展性 ,在微系统 (也称微机电系统 )中应用广泛 ,因此对Cu的刻蚀加工对微系统技术的发展具有重要的意义。约束刻蚀剂层技术 (ConfinedEtch antLayerTechnique简称CELT)作为一种新型的微加工技术[1] ,能够加工复制出复杂三维结构 ,到目前为止 ,该技术已成功应用于Si、GaAs等材料微结构的复制加工[2 ,3] 。 展开更多
关键词 CU CELT加工 化学刻蚀体系 捕捉体系 约束刻蚀层技术 制作工艺 齿状结构 微加工技术
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用于三维超微图形复制加工的约束刻蚀剂层技术研究 被引量:3
6
作者 谢雷 罗瑾 +1 位作者 毛秉伟 田昭武 《仪器仪表学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1996年第S1期193-195,198,共4页
本文对用于三维超出图形复制加工的约束刻蚀剂层技术进行了可行性研究。分析了刻蚀剂的扩出过程对电化学微细加工分辨率的影响,证明对刻蚀剂层进行约束可使该方法具里高敏感性,并成功地在GaAS单晶上进行了初步的复杂三维微细图形... 本文对用于三维超出图形复制加工的约束刻蚀剂层技术进行了可行性研究。分析了刻蚀剂的扩出过程对电化学微细加工分辨率的影响,证明对刻蚀剂层进行约束可使该方法具里高敏感性,并成功地在GaAS单晶上进行了初步的复杂三维微细图形的复制。 展开更多
关键词 约束刻蚀层技术 微图形 电化学微细加工 微细图形 微柱电极 电化学方法 可行性研究 微盘电极 原子力显微镜 扫描电化学显微镜
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光诱导约束刻蚀体系中的TiO_2纳米管阵列光电极上Cu的沉积及抑制
7
作者 黄雅钰 方秋艳 +3 位作者 周剑章 詹东平 时康 田中群 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2017年第10期2042-2051,共10页
光诱导约束刻蚀可作为一种无应力的化学平坦化方法用于Cu的抛光。我们发现在光诱导约束刻蚀工件Cu的过程中,工具表面的TiO_2纳米管上可能出现Cu沉积。通过扫描电子显微镜及其能谱,X射线光电子能谱等方法分析其沉积形貌和成分组成,探究... 光诱导约束刻蚀可作为一种无应力的化学平坦化方法用于Cu的抛光。我们发现在光诱导约束刻蚀工件Cu的过程中,工具表面的TiO_2纳米管上可能出现Cu沉积。通过扫描电子显微镜及其能谱,X射线光电子能谱等方法分析其沉积形貌和成分组成,探究在工具-工件之间的微纳尺度液层中Cu光催化还原沉积的机制,并在模拟液中研究Cu沉积对刻蚀体系的影响。探究引入搅拌、加入络合剂对TiO_2纳米管表面Cu的沉积的抑制,并考察抑制措施对于工件Cu刻蚀的影响。结果表明Cu沉积会增强TiO_2纳米管光电极的光催化性能,但随着沉积量的增加,增强机制会发生变化;在尝试抑制Cu沉积时也发现改善传质以抑制Cu沉积的同时也会带来工件Cu的刻蚀增强;采用添加络合剂结合改善传质的方法有望在抑制Cu沉积的同时提高平坦化效果。所以抑制方法和条件的选择需兼顾对工具-工件之间微纳液层中的多个化学和传质过程的影响。这些研究对于进一步优化光诱导约束刻蚀体系及其在化学平坦化中的应用有重要的指导意义。 展开更多
关键词 光诱导约束刻蚀 TIO2纳米管阵列 羟基自由基 约束剂 Cu的光催化沉积 传质
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镁合金表面微结构阵列的电化学微加工 被引量:5
8
作者 蒋利民 程泽宇 +3 位作者 杜楠 李维 田中群 田昭武 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2008年第7期1307-1312,共6页
研究了镁合金的约束刻蚀微加工方法.通过对电解过程中电极表面氢离子浓度变化以及刻蚀体系对镁合金的腐蚀速率的测量与分析,对一些可能有刻蚀作用的刻蚀体系进行了研究.选用亚硝酸钠作为产生刻蚀剂(硝酸)的前驱体、氢氧化钠作为捕捉剂... 研究了镁合金的约束刻蚀微加工方法.通过对电解过程中电极表面氢离子浓度变化以及刻蚀体系对镁合金的腐蚀速率的测量与分析,对一些可能有刻蚀作用的刻蚀体系进行了研究.选用亚硝酸钠作为产生刻蚀剂(硝酸)的前驱体、氢氧化钠作为捕捉剂、少量硅酸钠作为缓蚀剂的约束刻蚀体系,使用具有规整三维微立方体点阵结构的模板,在金属镁表面加工出具有与模板互补特性的点阵微结构,复制加工的分辨率为亚微米级.并对刻蚀过程机理进行了探讨与分析. 展开更多
关键词 约束刻蚀层技术 三维微加工 电化学
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金属铜表面的三维齿状图形的化学微加工 被引量:6
9
作者 刘柱方 蒋利民 +4 位作者 汤儆 刘品宽 孙立宁 田中群 田昭武 《应用化学》 CAS CSCD 北大核心 2004年第3期227-230,共4页
运用约束刻蚀剂层技术 (CELT)在金属铜 (Cu)表面实现了三维微图形加工 ,取得成功的关键因素在于寻找到能对Cu进行有效CELT加工的化学刻蚀和捕捉体系。采用规整的三维齿状结构为模板 ,在Cu表面得到了与齿状结构模板互补的三维微结构。采... 运用约束刻蚀剂层技术 (CELT)在金属铜 (Cu)表面实现了三维微图形加工 ,取得成功的关键因素在于寻找到能对Cu进行有效CELT加工的化学刻蚀和捕捉体系。采用规整的三维齿状结构为模板 ,在Cu表面得到了与齿状结构模板互补的三维微结构。采用扫描电子显微镜 (SEM )和原子力显微镜 (AFM )对所刻蚀图案进行表征 ,证实CELT可用于金属表面三维微图形的刻蚀加工。 展开更多
关键词 约束刻蚀层技术(CELT) 金属铜 三维微加工 化学刻蚀
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金属的电化学微区刻蚀方法 被引量:3
10
作者 蒋利民 田中群 +3 位作者 刘柱方 毛秉伟 黄海苟 孙建军 《电化学》 CAS CSCD 2002年第2期139-147,共9页
本文概述了现行的金属微区刻蚀方法并详细地介绍几种电化学刻蚀方法 ,比较了掩膜法、扫描电化学显微镜法、约束刻蚀剂层法、电化学扫描遂道显微镜法和超短电位脉冲法各自的特点 .从加工精度 (能否进行微米和纳米级加工 )、加工效率 (工... 本文概述了现行的金属微区刻蚀方法并详细地介绍几种电化学刻蚀方法 ,比较了掩膜法、扫描电化学显微镜法、约束刻蚀剂层法、电化学扫描遂道显微镜法和超短电位脉冲法各自的特点 .从加工精度 (能否进行微米和纳米级加工 )、加工效率 (工序复杂程度 ,能否批量制造或复制 )、可用范围 (主要是能否加工复杂三维立体结构 )等各项因素进行了综合分析 ,结果表明 ,各种加工方法各有其优缺点 ,从总的效果来看 。 展开更多
关键词 金属 电化学刻蚀 约束刻蚀层技术 微加工
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复杂三维超微图形的复制加工技术的困难及对策 被引量:5
11
作者 田昭武 田中群 +1 位作者 林仲华 谢兆雄 《仪器仪表学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1996年第S1期14-19,共6页
现有用于批量复制的微加工技术较难用于加工复杂的三维图形元件(如微凹凸面镜、。微锥形齿轮等)。主要原因是:1.只能加工简单三维图形;2.只能控制刻蚀深度,刻蚀后的表面仍保留着刻蚀前的表面的粗糙度。针对上述问题,本课题组... 现有用于批量复制的微加工技术较难用于加工复杂的三维图形元件(如微凹凸面镜、。微锥形齿轮等)。主要原因是:1.只能加工简单三维图形;2.只能控制刻蚀深度,刻蚀后的表面仍保留着刻蚀前的表面的粗糙度。针对上述问题,本课题组首先提出用于三维超微图形复制加工的约束刻蚀剂层技术(ConfinedEtchantLayerTechnique,简称CELT),该技术具有距离选择性并能控制保留量,可望用于批量复制加工微米乃至纳米级的复杂三维图形元件。 展开更多
关键词 微图形 微加工技术 约束刻蚀层技术 三维图形 刻蚀技术 抗蚀 高分辨图形 图形元件 连续曲面 方向选择性
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新型智能电化学微加工系统的研究 被引量:4
12
作者 刘品宽 孙立宁 +2 位作者 荣伟彬 蒋利民 田昭武 《高技术通讯》 EI CAS CSCD 2002年第6期83-87,共5页
约束刻蚀剂层技术是三维超微图形复制加工的新型技术。本文根据约束刻蚀剂层技术的工艺特点 ,介绍了约束刻蚀剂层电化学微加工仪器的组成 ,讨论了具有微力传感的纳米级微定位系统的研究与开发。利用研制的加工仪器 ,在半导体GaAs进行刻... 约束刻蚀剂层技术是三维超微图形复制加工的新型技术。本文根据约束刻蚀剂层技术的工艺特点 ,介绍了约束刻蚀剂层电化学微加工仪器的组成 ,讨论了具有微力传感的纳米级微定位系统的研究与开发。利用研制的加工仪器 ,在半导体GaAs进行刻蚀加工 ,复制出微孔阵列 ,其排列周期与模板的微锥阵列的排列周期吻合得很好 。 展开更多
关键词 智能电化学微加工系统 约束刻蚀层技术 压电陶瓷驱动器 半导体 三维超微图形复制加工技术
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镍表面三维微图形的复制加工 被引量:2
13
作者 刘柱方 蒋利民 +5 位作者 汤儆 张力 田中群 田昭武 刘品宽 孙立宁 《电化学》 CAS CSCD 2004年第3期249-253,共5页
 运用约束刻蚀剂层技术(CELT)在金属镍(Ni)表面实现三维微图形加工,以规整的三维齿状微结构作模板,获得可有效CELT加工的化学刻蚀和捕捉体系,在Ni表面得到了与齿状结构互补的三维微结构并应用扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)...  运用约束刻蚀剂层技术(CELT)在金属镍(Ni)表面实现三维微图形加工,以规整的三维齿状微结构作模板,获得可有效CELT加工的化学刻蚀和捕捉体系,在Ni表面得到了与齿状结构互补的三维微结构并应用扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)表征刻蚀图案,证实CELT可用于金属表面Ni的三维微图形刻蚀加工. 展开更多
关键词 三维微图形 复制加工 约束刻蚀层技术 化学刻蚀 捕捉体系 微系统技术
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面向半导体器件的电化学微纳制造技术 被引量:3
14
作者 韩联欢 杜炳谦 +5 位作者 许瀚涛 时康 周剑章 杨防祖 詹东平 田昭武 《厦门大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2020年第5期747-755,共9页
由于电化学加工技术无工具磨损、无残余应力、无表层和亚表层损伤和热效应,在先进制造领域具有不可替代的作用.面对超大规模集成电路、微纳机电系统和微纳器件等新兴产业的重大需求,电化学微纳加工技术应运而生.围绕“微纳米尺度空间限... 由于电化学加工技术无工具磨损、无残余应力、无表层和亚表层损伤和热效应,在先进制造领域具有不可替代的作用.面对超大规模集成电路、微纳机电系统和微纳器件等新兴产业的重大需求,电化学微纳加工技术应运而生.围绕“微纳米尺度空间限域电化学反应”这一关键科学问题,本文将在介绍电化学微纳加工技术的基础上,全面综述具有厦门大学特色的约束刻蚀剂层技术及其在半导体材料加工原理、方法和设备等方面的研究进展. 展开更多
关键词 约束刻蚀层技术 电化学微加工 电化学纳米加工 先进制造 半导体微纳器件 半导体晶圆
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电化学微/纳米加工技术 被引量:3
15
作者 张杰 贾晶春 +7 位作者 朱益亮 韩联欢 袁野 时康 周剑章 田昭武 田中群 詹东平 《大学化学》 CAS 2012年第3期1-8,共8页
介绍电化学微/纳米加工技术,特别是厦门大学电化学微/纳米加工课题组建立起来的约束刻蚀剂层技术,旨在让广大师生了解这一特种加工技术,共同促进我国电化学微/纳米加工技术的研究及产业化进程。
关键词 微/纳米加工技术 电化学微/纳米加工 约束刻蚀层技术
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基于LabVIEW的微纳加工系统设计与研究
16
作者 赵相晖 赖磊捷 朱利民 《机电一体化》 2014年第A04期28-32,44,共6页
根据约束刻蚀加工工艺原理要求,开发了基于LabVIEW软件的微纳米加工系统。系统主要由宏动定位平台、微动定位平台、微力传感器、电化学工作站以及控制系统组成。系统通过数据采集卡和运动控制卡来实现仪器的定位与运动控制,对接触检测... 根据约束刻蚀加工工艺原理要求,开发了基于LabVIEW软件的微纳米加工系统。系统主要由宏动定位平台、微动定位平台、微力传感器、电化学工作站以及控制系统组成。系统通过数据采集卡和运动控制卡来实现仪器的定位与运动控制,对接触检测和主动恒力控制等关键技术进行了重点研究,使用LabVIEW编写了运动控制软件,最后在此系统上开展了光学微透镜阵列的电化学湿印章刻蚀加工试验。实验结果表明该工艺成功地把模板上的微透镜阵列图案复制到了硅基底上,具有较高的复制精度。 展开更多
关键词 电化学湿印章 微纳米加工系统 LABVIEW 约束刻蚀
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Spectral Shift of π→π^* Transition for p-Nitroaniline Based on a New Expression of Nonequilibrium Solvation Energy
17
作者 季健 任海生 +1 位作者 马建毅 李象远 《Chinese Journal of Chemical Physics》 SCIE CAS CSCD 2014年第2期181-188,I0003,I0004,共10页
According to the nonequilibrium solvation theory studies, a constrained equilibrium principle is introduced and applied to the derivations of the nonequilibrium solvation energy, and a reasonable expression of the spe... According to the nonequilibrium solvation theory studies, a constrained equilibrium principle is introduced and applied to the derivations of the nonequilibrium solvation energy, and a reasonable expression of the spectral shift of the electronic absorption spectra is deduced. Furthermore, the lowest transition of p-nitroaniline (pNA) in water is investigated by time-dependent density functional theory method. In addition, the details of excited state properties of pNA are discussed. Using our novel expression of the spectral shift, the value of -0.99 eV is obtained for π→π^* transition in water, which is in good agreement with the available experimental result of -0.98 eV. 展开更多
关键词 Nonequilibrium solvation theory Spectral shift Solvent reorganization energy Constrained equilibrium
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利用约束刻蚀剂层技术提高硅的化学刻蚀分辨率
18
作者 祖延兵 谢雷 +3 位作者 田昭武 谢兆雄 穆纪千 毛秉伟 《科学通报》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第9期1002-1003,共2页
高分辨率刻蚀技术对于微机械及微电子器件的加工具有十分重要的意义.虽然光刻技术仍处于主导地位,但近年来许多新颖的微加工方法相继问世.其中,扫描电化学显微镜(SECM)用于表面加工的研究颇受注目.SECM刻蚀的主要原理是,利用精密定位系... 高分辨率刻蚀技术对于微机械及微电子器件的加工具有十分重要的意义.虽然光刻技术仍处于主导地位,但近年来许多新颖的微加工方法相继问世.其中,扫描电化学显微镜(SECM)用于表面加工的研究颇受注目.SECM刻蚀的主要原理是,利用精密定位系统使微电极接近样品表面,微电极电生刻蚀剂,刻蚀剂扩散到样品表面发生刻蚀反应,产生刻蚀图样.SECM刻蚀分辨率主要取决于微电极的尺寸,但刻蚀剂的横向扩散往往会对SECM的分辨率产生较大影响最近,田昭武等人提出了一种可进行高分辨率微加工的新方法——约束刻蚀剂层技术(CELT).其主要思路是在溶液中加入可与电生刻蚀剂快速反应的“捕捉剂”,使刻蚀剂的寿命大幅度缩短,其扩散层急剧变薄,从而可使刻蚀反应具有高度的距离敏感性,刻蚀分辨率得到极大改善. 展开更多
关键词 约束刻蚀 刻蚀 分辨率 化学刻蚀
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高山安可仰,徒此揖清芬
19
作者 陈燕芬 《今日科苑》 2010年第17期29-30,共2页
作为一位化学家,他十分重视电化学研究方法的创新及相关仪器的研制,首创有用于测定瞬间交流阻抗的选相调辉和选相检波测定法、用于测定超低腐蚀速率的控制电位脉冲技术、用于测定早期局部腐蚀的扫描微电极技术以及建立复制超微复杂三... 作为一位化学家,他十分重视电化学研究方法的创新及相关仪器的研制,首创有用于测定瞬间交流阻抗的选相调辉和选相检波测定法、用于测定超低腐蚀速率的控制电位脉冲技术、用于测定早期局部腐蚀的扫描微电极技术以及建立复制超微复杂三维图形新技术——约束刻蚀剂层技术。 展开更多
关键词 约束刻蚀层技术 扫描微电极技术 高山 测定法 化学研究 交流阻抗 脉冲技术 控制电位
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Multiple Confined-Zone-Based Nickel Hydrogenation Catalyst Made by Shanxi Institute of Coal Chemistry
20
《China Petroleum Processing & Petrochemical Technology》 SCIE CAS 2015年第4期19-19,共1页
The Shanxi Institute of Coal Chemistry,Chinese Academy of Sciences has designed and prepared a multiple confined-zone-based nickel hydrogenation catalyst by means of the atomic layer deposition(ALD)technology.In compa... The Shanxi Institute of Coal Chemistry,Chinese Academy of Sciences has designed and prepared a multiple confined-zone-based nickel hydrogenation catalyst by means of the atomic layer deposition(ALD)technology.In comparison with the non-confined-zone based catalyst,the multiple confined-zone-based nickel catalyst possesses an enhanced catalytic reactivity and catalytic stability for hydrogenation of cinnamaldehyde and nitrobenzene. 展开更多
关键词 Shanxi confined hydrogenation reactivity nickel nitrobenzene calcination template synthesize sized
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