纯氧氧化法制备草甘膦装置工艺危险性分析

分析了纯氧氧化法制备草甘膦装置的工艺危险性,认为其主要危险是高温烫伤和物理性爆炸,并提出工艺设计需要采取的安全措施。

抛光工艺参数对高纯氧化铝陶瓷基材抛光效果的影响

高纯氧化铝陶瓷基材广泛应用于精密电阻、微波集成电路等高端领域。为了获得具有超高平整度、纳米级表面质量的高纯氧化铝陶瓷基材,采用机械抛光(精研)与化学机械抛光(CMP)(精抛)相结合的工艺路线,系统研究了精研过程中的压力、转速、磨料的粒径、抛光液流速及CMP过程中的抛光压力、转速等工艺参数对抛光效果的影响。结果表明,精研压力为588 N,上、下研磨盘转速分别为45和50 r/min,多晶金刚石研磨液的粒径为1μm,磨料添加速率为15 mL/min,精研时长达到25 h时,陶瓷基材即可达到抛光工序的表面质量要求。抛光压力为588 N,上、下研磨盘转速分别为20和25 r/min,硅溶胶抛光液粒径为80 nm,抛光2 h时,高纯氧化铝陶瓷基材的表面粗糙度可达到纳米级别。

烧结温度对高纯氧化铝陶瓷结构与性能的影响

以乙醇和异丙醇二元溶剂为体系,高纯氧化镁为烧结助剂,采用流延法制备了高纯氧化铝陶瓷材料,纯度达到99.82%。研究了烧结温度对高纯氧化铝陶瓷致密度、晶粒尺寸及其力学、热学及电学性能的影响。结果表明,在一定范围内,随着温度的升高,高纯氧化铝陶瓷致密化程度增加,晶粒逐渐长大,热导率逐渐升高,介电常数、介电损耗、击穿强度以及体电阻率均有上升的趋势,而抗弯强度先升高后降低,在1650℃烧结时达到最高488.9 MPa。

醇铝水解法制备高纯氧化铝研究进展

高纯氧化铝粉体具有普通氧化铝无法替代的性能,广泛应用于高新技术材料领域和现代化工。醇铝水解法是目前制备高纯氧化铝比较常见的方法,本文则对该方法原理、技术要点等进行了详细的阐述。

谈一谈我国高纯氧化铝产业发展的3个问题及2点建议——访重庆任丙科技总经理罗焊塘

2023年12月20日,由中国粉体网主办的“2023第六届新型陶瓷技术与产业高峰论坛”在湖北宜昌成功召开!在大会期间,中国粉体网邀请到多位专家学者做客“对话”栏目,与各位专家大咖就行业前沿技术、研究热点、科技成果转化及行业发展前景等方面进行了访谈交流。本期为您分享的人物专访是来自重庆任丙科技的总经理罗焊塘。

高纯氧化铝基板的制备要点与宇航应用验证实践

通过分析高纯氧化铝陶瓷基板的制备要点,梳理了制备关键工艺与基板特性指标之间的关系,梳理出星用高纯氧化铝陶瓷基板的验证需求,最终提出了高纯氧化铝基板的验证思路,即在将全部验证项目分为构件级和组件级两个大类的基础上,进一步建立起三级验证指标体系。就具体验证项目的设计与实践,进行了细致的分析讨论。得出结论,验证过程体现出的既基于已有标准框架和测试原理,又不拘泥于某一特定标准的原则与思路,不仅适合于构件级的批次稳定性与工艺适用性验证,同样也适用于组件级各验证项目和具体测试方法的确定。在确保构件级和组件级全面、准确验证的前提下,为确保较高的验证效率和较低的验证成本,需要结合标准、测试条件、应用工况三方面综合考虑和细化验证项目条件。

星载微波电路用高纯氧化铝基板的工艺适用性验证技术

为了确保星载微波电路用高纯氧化铝基板的国产化可靠替代,本文通过全面分析星载产品用高纯氧化铝基板的工艺适用性验证需求,研究建立了星载微波电路用高纯氧化铝基板的工艺适用性验证指标体系,确定了验证试验项目,利用微波电路工艺件试验和组件产品环境适应性考核等试验验证手段,示范性地阐释了陶瓷基板类材料工艺适用性验证方法。研究表明,基于验证需求分析确定验证项目,通过试验与工艺实践获得各类验证数据进行多维度综合评价,可以给出客观完整、科学有效的工艺适用性验证结论。

异丙醇铝水解制备高纯氧化铝

采取异丙醇铝水解制备高纯氧化铝,实验较环保,且异丙醇能重复利用,降低了生产成本。对合成后的异丙醇铝进行检测,硅的含量很高,添加氧化镧后,异丙醇铝的纯度提高,且不改变异丙醇铝的性质,易产物分离。研究表明,异丙醇铝水解实验表明最佳水解条件为55℃时水解3~5 h;产物粉体中的水分在1200℃保温4 h时已全部蒸发,且当粉体煅烧温度的升高时,粉体比表面积和平均粒度也减小;可以利用Ca、Na、Mg去除杂质,提高氧化铝的纯度。

高纯氧化铝制备技术进展

高纯氧化铝作为一种具有良好物理和化学性能的功能材料,被广泛地应用于机械、电子、冶金、化工以及国防航天等重要的尖端高科技领域。主要介绍了硫酸铝铵热解法、碳酸铝铵热解法、改良拜耳法、高纯铝活化水解法和醇铝水解法等几种高纯氧化铝常用生产工艺的制备原理和近几年的研究现状,并总结了每种工艺的优缺点,指出了今后的发展趋势。

热分解法制备高纯氧化铝研究进展

本文综述了高纯氧化铝的基本性能及应用,并介绍了硫酸铝铵法和碳酸铝铵法两种热分解法的工艺原理、优缺点及原料的纯化方法。

水镁石制取高纯氧化镁的研究

采用氯化铵溶液直接与水镁石进行复分解浸出反应先得到氯化镁浸出液,同时用水吸收反应产生的氨;然后将氯化镁浸出液与回收的氨进行沉镁反应得到中间体氢氧化镁,最后将氢氧化镁在900℃高温下煅烧制取高纯氧化镁,沉镁反应过程中生成的氯化铵可循环使用.研究了水镁石浸出过程中各因素对镁浸出率的影响,当浸出温度为110℃,液固比8∶1,浸出时间为60 min时,镁浸出率达90%以上.通过控制氯化镁溶液与氨反应的温度及pH值等条件,可得到过滤、洗涤性能好的Mg(OH)2中间体,滤饼含水率仅12%,经高温煅烧得到的氧化镁纯度达99.92%.

纯氧法合成氧化铁红晶种的研究

以NaOH与FeSO4·7H2O为原料,在纯氧加压条件下反应得到铁红晶种,并研究了其转化为α-Fe2O3的历程。利用X射线衍射仪、激光粒度仪与场发射扫描电镜等对产物进行表征。结果表明,产物的晶型、颜色均与空气法晶种氧化出来的α-Fe2O3相同。但是纯氧法可节省大量时间、提高生产效率,且通过控制反应时间可以得到所需粒径与颜色的铁红产品。

蛇纹石尾矿制备高纯氧化镁工艺条件的研究

文章研究了以蛇纹石尾矿为原料制备高纯氧化镁的新工艺,并考察了粗硫酸镁溶液净化终点pH值的变化对样品纯度的影响;同时,在精制硫酸镁溶液浓度、煅烧温度和煅烧时间确定的前提下,通过正交实验确定沉淀反应的最佳工艺条件为:反应温度40℃,硫酸镁与碳酸钠摩尔计量比为1∶1.4,反应时间30 min,陈化时间30 min;在此条件下,所得样品中wMgO≥99.16%,wCaO≤0.08%。

一氧化碳还原热解硫酸镁制备高纯氧化镁

利用菱镁矿和工业纯硫酸制备七水硫酸镁,进一步脱水得到无水硫酸镁。以无水硫酸镁和CO气体为原料,经高温煅烧制备高纯氧化镁,考察硫酸镁粒径、CO气体流量、煅烧温度和煅烧时间对硫酸镁转化率的影响。通过单因素实验确定的最佳工艺条件为:粒径51.8μm,CO气体流量30 mL/min,煅烧温度800℃,煅烧时间2.0 h。样品氧化镁经X射线衍射和扫描电镜表征,纯度达到99%,其平均粒径为40nm,单分子表面为多孔蓬松状。经实验和动力学推导得到描述热解过程的经验方程,CO气体还原热解硫酸镁的动力学模型为收缩核动力学模型,热解表观活化能为234.055 kJ/mol,该模型表明热解过程中的控制步骤决定于氧化还原速率。

硫酸镁还原热解制备高纯氧化镁

用菱镁矿和工业纯硫酸来制备七水硫酸镁,进一步脱水得到无水硫酸镁。以无水硫酸镁和木炭粉为原料,经高温煅烧制备高纯氧化镁。研究反应物的配比、煅烧温度、煅烧时间以及粒径对产品纯度的影响。采用X线衍射和扫描电镜对样品进行表征。通过单因素实验确定的最佳工艺条件为:硫酸镁和炭粉的最佳配比8:1,煅烧时间2 h,煅烧温度800℃,粒径109μm。研究结果表明:在最佳工艺下,样品纯度达到99%,粒径分布介于109～700μm之间,单分子表面为多孔蓬松高比表面。

高纯氧化铝粉制备研究进展

高纯α-Al2O3粉是制造高科技产品的重要原料,其优异的性能和广阔的应用前景引起了业界的广泛关注。介绍了α-Al2O3的主要制备方法和近几年研究进展,比较了各种方法的优缺点,从生产成本、工艺流程复杂程度和环境污染等方面进行了重点分析,提出了制备高纯α-Al2O3粉体的新方法。

高纯氧化铝陶瓷与无氧铜的钎焊

电真空应用中，要求高纯氧化铝与无氧铜的连接接头具有较高的强度和气密性。采用Ag-Cu-Ti活性钎料直接钎焊高纯氧化铝陶瓷与无氧铜，研究了钎焊温度和保温时间对接头组成、界面反应以及接头抗剪强度的影响，研究了铜基体材料对钎焊接头组织和界面反应的影响。钎焊温度850～900℃，保温时间20～60min时，接头抗剪强度接近或达到90MPa。钎焊工艺参数偏离上述范围时，接头抗剪强度较低。接头由Cu／Ag（Cu），Cu（Ag，Ti）／Cu3Ti3O（TiO2）／Al2O3组成，反应层以Cu3Ti3O为主，个别工艺条件下有一定量的TiO2生成，铜基体视工艺条件的不同对钎焊接头组织有一定影响。

重镁水添加乙醇热解制备高纯氧化镁

以轻烧白云石粉料为原料,采用碳化法,在重镁水热解过程中加入乙醇制备出MgO含量大于99.7%的氧化镁样品,研究乙醇用量、热解温度对氧化镁样品纯度和MgO回收率的影响。氧化镁纯度随乙醇用量的增大而降低,随热解温度的升高而降低,重镁水分解率随乙醇用量的增大和热解温度的升高呈上升趋势。制备高纯度氧化镁的最佳工艺条件为热解温度50℃,乙醇体积含量40%。XRD表明样品为立方晶系。

高纯氧化铝制备技术及应用研究进展

高纯氧化铝由于具有优良的物化特性而成为重要的特种功能材料之一,在机械、电子、化工、光学等技术领域具有广泛用途。介绍了高纯氧化铝的主要生产方法,对各生产方法的特点及优缺点进行了分析,并介绍了高纯氧化铝的最新应用领域。此外,还展望了高纯氧化铝的未来发展方向。

新酸碱联合法以粉煤灰制备高纯氧化铝和超细二氧化硅

提出了酸碱联合法用粉煤灰制备高纯氧化铝和超细二氧化硅的新工艺,描述了主要工艺步骤,本流程中原料可循环利用,无废气、废液的排放,并对氧化铝产品和二氧化硅产品进行了表征。