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纯钨靶在电子轰击下的失效分析 被引量:4
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作者 郝用兴 贾耿伟 《中国钨业》 CAS 北大核心 2006年第2期29-32,共4页
在正常工作的条件下,部分医用X射线管中的纯钨靶表面会逐渐变得粗糙,在粗糙区进一步会出现表面裂纹,但同型号的进口钨靶表面却几乎没有粗糙区和裂纹出现。采用SEM、EDS和化学成分测试等方法,对两种钨靶进行了研究和比较。结果显示,杂质... 在正常工作的条件下,部分医用X射线管中的纯钨靶表面会逐渐变得粗糙,在粗糙区进一步会出现表面裂纹,但同型号的进口钨靶表面却几乎没有粗糙区和裂纹出现。采用SEM、EDS和化学成分测试等方法,对两种钨靶进行了研究和比较。结果显示,杂质元素的含量偏高和沿晶界的偏析以及不均匀的钨晶粒是造成国产钨靶表面损伤的主要原因。 展开更多
关键词 纯钨靶 表面裂纹 偏析 晶粒度
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