偏压对磁控溅射纯Cr镀层组织形貌及耐腐蚀性能的影响

基于磁控溅射离子镀技术在不同偏压下于单晶硅和45钢基体上制备了纯Cr镀层。采用扫描电子显微镜、X射线衍射仪和CH1660B电化学工作站(极化曲线)分析了纯Cr镀层表面、截面微观形貌和择优生长取向的变化规律,并考察了纯Cr镀层的耐腐蚀性能。结果表明:偏压显著影响着纯Cr镀层的组织结构、择优取向以及耐腐蚀性能。基体偏压值大于90V后纯Cr镀层的组织结构由柱状晶向等轴晶转变纯Cr镀层组织形貌由柱状晶逐渐向等轴晶转变,随着偏压值增大,纯Cr镀层晶体择优生长面由(200)晶面变为(110)晶面,镀层耐腐蚀性能逐渐增强;且偏压值为120V时,镀层耐腐蚀性能表现最优;纯Cr镀层中晶体颗粒尺寸的减小和致密度的增加是耐腐蚀性提高的主要原因。

负偏压对纯Cr涂层表面液滴及涂层结合力的影响

采用多弧离子镀技术于不同负偏压条件下在锆合金表面沉积纯Cr涂层。利用扫描电子显微镜、X射线衍射仪和划痕仪分析了纯Cr涂层表面形貌和择优生长取向变化规律,并对涂层膜基结合力进行表征。结果表明:负偏压不同,纯Cr涂层上液滴分布和择优生长取向都有较大的影响。其中随着负偏压的增加,纯Cr涂层表面液滴的数量和尺寸先减少后增加的趋势,同时纯Cr涂层晶体择优生长趋势由(200)晶面转向(110)晶面;纯Cr涂层的膜/基结合力随负偏压的增加逐渐增大。

纯Cr在750℃熔融LiCl-Li_2O中腐蚀行为

利用锂化还原处理技术处理乏燃料时,形成的L iC l-L i2O混合熔盐将使反应容器和传送装置材料发生强烈的腐蚀.采用浸没法腐蚀实验研究了纯C r在750℃下,不同浓度熔融L iC l-L i2O中的腐蚀行为.实验结果表明,随着L i2O浓度的增加,纯C r在750℃熔融L iC l-L i2O中的腐蚀产物发生了由L iC rO2向L i2C rO4的转变,这与热力学计算得到的相稳定图一致.腐蚀减重随L i2O浓度的升高而增大.

电场环境对磁控溅射纯Cr薄膜沉积过程的影响

基于磁控溅射离子镀技术,以纯Cr薄膜为研究对象,分析了电场环境对纯Cr薄膜微观组织结构的影响规律;结合溅射沉积和薄膜生长原理揭示了电场环境对纯Cr薄膜沉积过程的内在机理;探讨了磁控溅射离子镀技术在工程材料的纳米化和非晶化进程中应有的功能,以期为纳米材料的研发及其制备技术的创新提供参考依据。

弧电流对多弧离子镀纯Cr涂层组织性能的影响

采用多弧离子镀技术在锆合金表面制备了纯Cr涂层。利用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)和划痕仪分析了弧电流对纯Cr涂层表面形貌、物相结构以及膜基结合力的影响,并采用Image J图像处理软件对纯Cr涂层表面大颗粒分布进行统计和分析。结果表明,随着弧电流的增大,纯Cr涂层表面大颗粒尺寸先增大后减小,单位面积内大颗粒数目则先减少后增多,同时纯Cr涂层的择优生长趋势由(110)晶面变为(200)晶面,且纯Cr涂层与锆合金基材的膜基结合力先减小后增大。

纯Cr粉末激光熔覆技术研究

利用激光在PCrNi3Mo钢上熔覆纯Cr粉末,采用多道搭接技术实现了大面积激光熔覆,利用预热技术有效地消除熔覆层的裂纹。试验结果表明,获得了激光熔覆的最佳工艺参数,激光熔覆层均匀连续,无宏观气孔和裂纹,激光熔覆层与基体发生了冶金结合。熔覆层组织紧密,细化了晶粒和组织结构,硬度和耐磨损性能较高。

占空比对多弧离子镀纯Cr涂层表面形貌的影响

利用多弧离子镀技术于不同的占空比条件下在锆合金表面制备出纯Cr涂层,采用扫描电子显微镜(SEM)和X射线衍射仪(XRD)分析了纯Cr涂层表面形貌和择优生长取向的变化规律,并利用Image J软件对纯Cr涂层表面的孔隙率进行分析。结果表明:占空比的改变显著影响着纯Cr涂层的微观形貌、择优生长取向和孔隙率。随着占空比的增大,纯Cr涂层的表面大颗粒数目和孔隙率逐渐减少,表面形貌得到改善,同时纯Cr涂层晶体择优生长趋势由(110)晶面转向(200)晶面。

多弧离子镀气压对纯Cr涂层表面形貌和耐腐蚀性的影响

采用多弧离子镀技术在锆合金表面制备纯Cr涂层,利用扫描电镜(SEM)与Image J图像处理软件综合分析了纯Cr涂层的表面形貌,并对表面大颗粒的尺寸和数目进行了统计和分析;采用X射线衍射仪(XRD)对涂层的相结构进行了分析;利用划痕仪和电化学工作站分析了气压对纯Cr涂层膜基结合力和耐腐蚀性的影响。结果表明:随着气压的升高,纯Cr涂层表面微坑缺陷减小,大颗粒数目和直径呈明显下降趋势,膜层结合力及耐腐蚀性增大。纯Cr涂层沿(110)晶面择优生长,1.6 Pa时,涂层的结合力达到最大值26 N,耐蚀性最佳。

纯Cr粉末激光熔覆性能研究

利用激光在PCrNi3Mo钢上熔覆纯Cr粉末。结果表明,激光熔覆层与基体发生了冶金结合。熔覆层具有较高的硬度和良好的耐磨性。

纯Cr在固态NaCl和水蒸汽协同作用下电化学腐蚀机制研究

采用电偶腐蚀测量、动电位极化曲线测量和电化学阻抗测量等技术研究了纯Cr在固态NaCl和水蒸汽协同作用下的腐蚀机制.结果表明:纯Cr在该腐蚀环境中发生电化学腐蚀,而电化学腐蚀在腐蚀总量中所占的比重很小.但是,纯Cr的腐蚀是电化学腐蚀反应耦合一个前置的化学腐蚀反应的过程,即纯Cr首先与固态NaCl和水蒸汽发生化学腐蚀反应产生气态HCl,生成的气态HCl再参与电化学腐蚀反应生成H2.电化学腐蚀反应的发生促进了化学腐蚀反应的进行,从而加速了纯Cr的腐蚀.

直流偏压对不锈钢上纯铬涂层结构和性能的影响

采用等离子体增强磁控溅射系统在奥氏体不锈钢表面沉积纯铬涂层,以达到表面强化的效果。通过改变基体直流偏压来调节离子能量,研究离子能量对涂层微观结构和力学性能的影响。采用XRD、SEM、纳米压痕仪、摩擦磨损仪等分别对纯铬涂层的微观结构和力学性能进行了表征。随着偏压增加,纯铬涂层致密度增加,结构由柱状晶向等轴晶转变,沉积速率线性下降,晶粒取向由(110)和(211)向(200)转变。其中,偏压为-25 V时,H/E*与H3/E*2分别为0.0302、0.0058,涂层的塑韧性最高,与基体结合性能最强,耐磨性最佳;且平均摩擦系数仅为0.39,磨痕截面积为61μm2。

激光熔覆技术研究

利用激光在PCrNi1Mo钢上熔覆纯Cr粉末,采用多道搭接激光熔覆技术获得了最佳的激光熔覆工艺参数。实验结果表明,激光熔覆层均匀连续,无宏观气孔和裂纹,激光熔覆层与基体发生了冶金结合。

纯铬的650℃高温氧化行为

利用扫描电镜、能谱分析(EDS)、X射线衍射、XPS光电子能谱衍射研究了纯Cr在650℃高温空气和高温水蒸汽中的氧化行为。采用增量法测定了氧化动力学曲线。结果表明:在650℃氧化时,纯Cr的氧化产物均为Cr_2O_3,氧化是一个氧化与挥发并存的过程,氧化动力学曲线先下降后上升,说明在氧化初始阶段,挥发量大于氧化增量,随着氧化逐渐深入,氧化增量开始大于挥发量。Cr在水蒸汽中氧化时孕育期更短,氧化速度更快。

Sasakian Submanifolds of Kaehlerian Manifolds(Ⅱ)

In this paper,it is proved that the Sasakian anti-holomorphic submanifolds of a Kaehlerian manifold is characterized by D-totally umbilical,and some curvature properties of the CR-submanifolds are ohtained.