纳米印刷光刻技术

介绍了纳米结构制作的一种新方法———纳米印刷光刻的基本原理、总体方案。该技术与其它微刻印技术相比,具有成本低、生产效率高、可批量生产、工艺过程简单等优点。介绍了SiC模板的制作方法、用纳米印刷光刻技术制作纳米结构的加工步骤及刻印结果。结果表明该技术可制作特征尺寸小于100nm的图形。本文还展望了其应用于微电子学等领域的前景。

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美国佛罗里达大学（FIU）订购OAI纳米印刷光刻组件（NIL）背面掩模对准器 用于半导体、MEMS、微流体和纳米行业的UV曝光设备领衔制造商OAI宣布，美国佛罗里达大学（FIU）已决定采用该公司生产的配置OAI纳米印刷光刻组件（NIL）的M800正面和背面掩模对准器。该纳米印刷光刻组件研发于HP晶圆厂，