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基于磁控溅射制备纳米微晶NiO_x薄膜的方法 被引量：1
1
作者 王怀义 刁训刚 +3 位作者 王武育 郝维昌 王聪 王天民 《材料研究学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第4期426-430,共5页
使用一种配套于磁控溅射设备的基片液氮冷却装置制备了小颗粒度纳米微晶NiO_x电致变色薄膜.当溅射参数完全相同时,借助于对基片的冷却可有效控制并降低NiO_x薄膜的晶粒尺度.冷却基片所制备的NiO_x薄膜的电致变色性能明显优于室温时制备... 使用一种配套于磁控溅射设备的基片液氮冷却装置制备了小颗粒度纳米微晶NiO_x电致变色薄膜.当溅射参数完全相同时,借助于对基片的冷却可有效控制并降低NiO_x薄膜的晶粒尺度.冷却基片所制备的NiO_x薄膜的电致变色性能明显优于室温时制备的薄膜,且该薄膜的O/Ni比率也明显高于室温时制备的NiO_x薄膜的O/Ni比率. 展开更多
关键词 无机非金属材料 磁控溅射 纳米微晶态 电致变色 NiOx薄膜
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