纳米样板的制备及其精度分析

介绍了纳米样板的研究现状及制备工艺,特别对扫描探针显微镜(SPM)表面局域氧化反应工艺进行了详述;分析了原子力显微镜(AFM)探针诱导局域氧化工艺的原理及其影响参数,原理为高度局域化的电化学反应,影响参数包括探针上所施加的电压、扫描速度、探针曲率半径、相对湿度以及氧化物厚度等;用该方法分别制备了5条栅线和7条栅线的一维纳米结构样板,并对7条栅线的纳米结构样板的精度和不确定度影响因素进行了分析。

纳米测量及纳米样板

介绍了纳米测量系统的组成以及纳米样板的研究现状 .提出了两种制备纳米结构样板的方法 :Si基底上的原子力显微镜 (AFM )探针诱导阳极氧化工艺和Au膜上的AFM探针机械划刻工艺 .

用AFM探针诱导局域氧化工艺制备纳米样板的研究

本文介绍了纳米测量系统的组成和纳米样板的研究现状 ,讨论了AFM探针诱导局域氧化工艺的原理及其影响参数 ,用该方法进行了一维纳米结构样板的制备 。

采用计量型扫描力显微镜校准微纳米标准样板

为了建立质量保证体系,微米和纳米样板至今仍被广泛地应用于校准微纳米尺度的测量仪器中．介绍了应用由德国联邦物理研究所开发研究的、测量范围为25 mm×25 mm×5 mm的计量型扫描力显微镜(M-LRSFM)的校准方法．上述计量型扫描力显微镜配置有三个零拍的激光干涉仪,可分别测量沿x、y、z三条轴线方向的位移,因而其测量值可直接溯源于“米”定义．此种M-LRSFM能够校准横向的微纳尺度的结构尺寸,诸如阶梯高度、一维和二维光栅、镀层厚度、线宽、微纳尺度的表面粗糙度等．作为实例,介绍了一种横向样板的校准程序及获得的校准结果．研究表明这种方法适合于校验扫描电子显微镜(SEM)的放大倍率．

纳米台阶标准样板的制备和表征

介绍了纳米标准样板在纳米量值溯源体系中的重要作用和制备纳米标准样板的基本要求,设计了适用于多用途的标准值为100nm纳米台阶标准样板的特征结构和制备工艺流程,阐述了纳米测量装置的工作原理以及原子力测头(AFM)、激光聚焦式测头(LFS)、扫描白光干涉测头(SWLIS)的参数指标和适用范围。分别利用纳米测量机(NMM)的多种测头对纳米标准样板进行表征,对SIMT100纳米标准样板A区域开展重复性实验、区域均匀性实验和长时间稳定性实验。结果表明,设计与制备的SIMT100纳米标准样板A区域的高度值具有较好的量值传递特性。台阶标准片的测量重复性、区域均匀性和稳定性的标准偏差均小于1nm。

我国成功研制一维铬原子沉积纳米光栅样板

由中国计量科学研究院、同济大学和国防科技大学联合组成的研究小组，经过3年科技攻关，在国内首次成功研制出一维铬原子沉积纳米光栅样板。日前，该课题通过了国家质检总局科技司组织的验收鉴定。

基于NMM的AFM测试分析原子光刻纳米光栅样板

利用激光汇聚中性铬原子沉积出一维纳米光栅样板的基础上，基于NMM的AFM测量系统对样板进行了测试分析和测试方法研究，得到一维纳米光栅结构平均节距为212．64±0．4nm，与^（52）Cr原子共振跃迁（^7S3→^7P（4^0）的半波长（λ／2）理论值212．8nm基本一致，测试结果非常准确。文章还介绍利用NMM测量机的大范围扫描测试距离，解决了光栅样板的测试区域快速定位的问题，对研究纳米级精度测量有实用价值及参考意义。