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用陶瓷制UV射线可通过的半导体
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作者 李正 《精细与专用化学品》 CAS 2003年第2期28-28,共1页
日本东京研究所和日本科学技术公司合作开发了用陶瓷制UV射线可通过的半导体技术。研究人员发现,氧化铝-氧化钙复合物12CaO·7Al_2O_3系由纳米级笼状物构成,这种笼状物可以高浓度地贮存在一般情况下不稳定的阴离子。
关键词 陶瓷 UV射线 半导体 制备 日本东京研究所 日本科学技术公司 合作开发 氧化铝-氧化钙复合物 纳米级笼状物
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