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用陶瓷制UV射线可通过的半导体
1
作者
李正
《精细与专用化学品》
CAS
2003年第2期28-28,共1页
日本东京研究所和日本科学技术公司合作开发了用陶瓷制UV射线可通过的半导体技术。研究人员发现,氧化铝-氧化钙复合物12CaO·7Al_2O_3系由纳米级笼状物构成,这种笼状物可以高浓度地贮存在一般情况下不稳定的阴离子。
关键词
陶瓷
UV射线
半导体
制备
日本东京研究所
日本科学技术公司
合作开发
氧化铝-氧化钙复合物
纳米级笼状物
原文传递
题名
用陶瓷制UV射线可通过的半导体
1
作者
李正
出处
《精细与专用化学品》
CAS
2003年第2期28-28,共1页
文摘
日本东京研究所和日本科学技术公司合作开发了用陶瓷制UV射线可通过的半导体技术。研究人员发现,氧化铝-氧化钙复合物12CaO·7Al_2O_3系由纳米级笼状物构成,这种笼状物可以高浓度地贮存在一般情况下不稳定的阴离子。
关键词
陶瓷
UV射线
半导体
制备
日本东京研究所
日本科学技术公司
合作开发
氧化铝-氧化钙复合物
纳米级笼状物
分类号
TQ174.7 [化学工程—陶瓷工业]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
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1
用陶瓷制UV射线可通过的半导体
李正
《精细与专用化学品》
CAS
2003
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