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RTD纳米薄层的精细控制及X射线双晶衍射测量 被引量:1
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作者 卜夏正 武一宾 +1 位作者 商耀辉 王建峰 《微纳电子技术》 CAS 2006年第11期508-511,519,共5页
在共振隧穿二极管(RTD)的MBE生长中,用双生长速率和束流调制技术实现了RTDnm级薄层的精细控制;用X射线双晶衍射仪扫描并分析了典型双势垒RTD样品的衍射摇摆曲线;用计算机对样品结构进行了动力学模拟分析。结果显示样品异质结界面和晶体... 在共振隧穿二极管(RTD)的MBE生长中,用双生长速率和束流调制技术实现了RTDnm级薄层的精细控制;用X射线双晶衍射仪扫描并分析了典型双势垒RTD样品的衍射摇摆曲线;用计算机对样品结构进行了动力学模拟分析。结果显示样品异质结界面和晶体质量良好,纳米薄膜的组分和厚度偏差分别控制在2%和3.5%之内,说明薄层的生长得到了精细控制。 展开更多
关键词 共振隧穿二极管 纳米级薄层 精细控制 X射线双晶衍射 动力学模拟
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