亚稳态氦原子束在纳米结构制作中的应用

介绍两种用亚稳态氦原子束制作纳米结构的新方法。亚稳态原子束从原子源喷出后首先对其进行横向激光冷却,准直后的原子束穿过与之垂直的激光驻波场时发生淬火过程,原子的密度分布出现沟道化效应,给出基于光掩模制作纳米图形的基本原理、理论分析及模拟结果。介绍基于物理掩模制作纳米图形的原理和SAM抗蚀剂,利用沉积在基底上的亚稳态原子破坏基底上的SAM膜,结合刻蚀技术可制作出纳米量级的图形。

科学家发现纳米结构制作方法

美国宾夕法尼亚大学的科学家用“直接组装”的方法制作出了微型花状液晶，这种液晶可用于镜头的制造。顾名思义，“直接组装”其实是按照一系列预定指令进行的制造工艺。

混合网络纳米结构制作透明指纹传感器

《自然·通讯》杂志近日发表了韩国蔚山国立科技研究所一个团队的一项材料科学新突破：以用超长银纳米纤维和纯银纳米线制成随机混合网络纳米结构，创造出新型透明电极，进而产生一种透明的指纹传感器，用户可以将手指放在屏幕的任何位置进行身份识别，而不需要使用指纹激活按钮。

用亚稳态氩原子束制作纳米结构

纳米结构制作是纳米技术的重要组成部分 ,原子光刻技术是纳米图形制作的一项新方法。对直流高压放电产生的亚稳态氩原子束进行准直减小其发散角 ,亚稳态原子在与之传播方向垂直的激光驻波场中发生淬火并沉积在基底上 ,破坏吸附在基底表面的SAM膜 (self_assembledmonolayers) ,结合刻蚀技术可制作出纳米量级的图形。给出该技术制作纳米图形的基本原理、方案、相关理论及模拟结果。

一种可制作任意纳米图形的新技术

提出一种可制作纳米量级任意微细结构图形的新方法。该方法利用特别设计制作的原子束计算全息片来操纵原子运动,在基底堆积形成纳米图形;弥补了原子光刻技术中利用激光驻波场控制原子堆积只能制作单一量子点、线等周期性图形的不足。扼要介绍了原子束全息的基本原理,给出该项技术的实现方案,并进行了模拟研究。结果显示:当原子波长为12nm时,得到了占空比1∶1的50nm线条、60nm方孔以及1郾2μm×1郾2μm大小的汉字图像,表明该技术不仅可以制作点、线等规则图形以及像拐角线这样的周期性图形,还可以制作不规则的非周期性的任意图形,特征线宽均能达几十纳米。

纳米印刷光刻技术

介绍了纳米结构制作的一种新方法———纳米印刷光刻的基本原理、总体方案。该技术与其它微刻印技术相比,具有成本低、生产效率高、可批量生产、工艺过程简单等优点。介绍了SiC模板的制作方法、用纳米印刷光刻技术制作纳米结构的加工步骤及刻印结果。结果表明该技术可制作特征尺寸小于100nm的图形。本文还展望了其应用于微电子学等领域的前景。

原子束全息技术制作任意微细图形研究

从波粒二象性原理出发 ,研究了用氖原子束计算全息技术制作任意纳米结构的基本原理和方法 ,克服了用激光梯度场控制原子堆积 ,只能制作单一点、线等周期性纳米结构的不足。分析讨论了原子全息与光学全息的区别 ,指出只有经激光冷却的原子束才满足全息技术所要求的相干条件和衍射条件。最后采用罗曼Ⅲ型迂回位相编码方法设计了氖原子束计算全息片 。

纳米光刻技术现状与进展

随着纳米加工技术的发展,纳米结构器件必将成为未来集成电路的基础。纳米光刻技术是制作纳米结构的基础,具有重要的应用前景。文章介绍了几种极有潜力的下一代纳米光刻技术,包括极紫外光刻技术、电子束光刻技术、纳米压印光刻技术的新途径、发展现状和关键问题,最后讨论了纳米光刻技术的应用前景。

用完全非共振光驻波聚焦原子制作纳米结构分析

用完全非共振激光驻波场对热原子束实现纳米量级的聚焦,可以降低原子光刻试验的难度.用蒙特卡罗算法和轨迹模拟法分析原子源对原子聚焦的影响,结果表明靶的有效尺寸对纳米图形线宽的影响远大于原子束的发散角和原子的纵向速度分布.提出几种改进试验的方法.

AAO为模板软印模法构建大面积高性能SERS基底（英文）

以双通多孔氧化铝(AAO)为模板用软印模法制作出硅胶(PDMS)纳米线团簇结构,用离子束溅射沉积法在硅胶纳米面条衬底上镀一层50nm的金膜,制成大面积、超高灵敏的SERS基底.以不同孔径的AAO为模板,制作出不同直径的纳米线.用罗丹明6G为探针分子,通过对不同直径纳米线形成的团簇SERS基底进行拉曼信号测量发现,所有SERS基底都显示出可观的拉曼信号增强效应,平均拉曼增强因子随着纳米线直径的增大而增大,最大的增强因子超过2×107.如此大的拉曼信号增强归因于大量纳米线间隙中的超强电磁增强效应.

纳米光刻技术的现状和未来

纳米技术是 2 1世纪信息科学的一项关键技术 ,纳米结构制作是纳米技术的重要组成部分 .纳米光刻技术是制作纳米结构的基础 ,具有重要的应用前景 .文章对光学光刻技术进行了概述 ,介绍了几种纳米光刻技术的新途径、发展现状和关键问题 。