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催化剂对纳米非晶碳膜场发射性能的影响
1
作者
张新月
曾凡光
+1 位作者
姚宁
张兵临
《发光学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2011年第1期83-86,共4页
利用微波等离子体增强化学气相沉积(MPECVD)法,在经处理的单晶硅衬底上沉积了纳米非晶碳薄膜。通过Raman、SEM、XRD表征,研究了催化剂对纳米非晶碳膜的生长速率及场发射性能的影响。结果表明,在制备纳米非晶碳膜时使用FeCl3作为催化剂...
利用微波等离子体增强化学气相沉积(MPECVD)法,在经处理的单晶硅衬底上沉积了纳米非晶碳薄膜。通过Raman、SEM、XRD表征,研究了催化剂对纳米非晶碳膜的生长速率及场发射性能的影响。结果表明,在制备纳米非晶碳膜时使用FeCl3作为催化剂可大幅提高其生长速率。在相同的制备条件下,与未加FeCl3催化剂制备的纳米非晶碳膜的场发射性能相比,加催化剂制备的碳膜开启电场降至0.5V.μm-1;在1.8V.μm-1的电场下,电流密度可以达到2.6mA.cm-2,而且发射点密度较大、分布均匀。
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关键词
纳米非晶碳膜
催化剂
场发射
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职称材料
题名
催化剂对纳米非晶碳膜场发射性能的影响
1
作者
张新月
曾凡光
姚宁
张兵临
机构
郑州航空工业管理学院数理系
郑州大学材料物理教育部重点实验室
出处
《发光学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2011年第1期83-86,共4页
基金
河南省基础与前沿技术研究计划(092300410139)
航空基金(2009ZE55003)
河南省教育厅自然科学基础研究计划(2010B140015)资助项目
文摘
利用微波等离子体增强化学气相沉积(MPECVD)法,在经处理的单晶硅衬底上沉积了纳米非晶碳薄膜。通过Raman、SEM、XRD表征,研究了催化剂对纳米非晶碳膜的生长速率及场发射性能的影响。结果表明,在制备纳米非晶碳膜时使用FeCl3作为催化剂可大幅提高其生长速率。在相同的制备条件下,与未加FeCl3催化剂制备的纳米非晶碳膜的场发射性能相比,加催化剂制备的碳膜开启电场降至0.5V.μm-1;在1.8V.μm-1的电场下,电流密度可以达到2.6mA.cm-2,而且发射点密度较大、分布均匀。
关键词
纳米非晶碳膜
催化剂
场发射
Keywords
nano-amorphous carbon films; catalyst; field emission
分类号
O462.4 [理学—电子物理学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
催化剂对纳米非晶碳膜场发射性能的影响
张新月
曾凡光
姚宁
张兵临
《发光学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2011
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