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催化剂对纳米非晶碳膜场发射性能的影响
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作者 张新月 曾凡光 +1 位作者 姚宁 张兵临 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第1期83-86,共4页
利用微波等离子体增强化学气相沉积(MPECVD)法,在经处理的单晶硅衬底上沉积了纳米非晶碳薄膜。通过Raman、SEM、XRD表征,研究了催化剂对纳米非晶碳膜的生长速率及场发射性能的影响。结果表明,在制备纳米非晶碳膜时使用FeCl3作为催化剂... 利用微波等离子体增强化学气相沉积(MPECVD)法,在经处理的单晶硅衬底上沉积了纳米非晶碳薄膜。通过Raman、SEM、XRD表征,研究了催化剂对纳米非晶碳膜的生长速率及场发射性能的影响。结果表明,在制备纳米非晶碳膜时使用FeCl3作为催化剂可大幅提高其生长速率。在相同的制备条件下,与未加FeCl3催化剂制备的纳米非晶碳膜的场发射性能相比,加催化剂制备的碳膜开启电场降至0.5V.μm-1;在1.8V.μm-1的电场下,电流密度可以达到2.6mA.cm-2,而且发射点密度较大、分布均匀。 展开更多
关键词 纳米非晶碳膜 催化剂 场发射
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