高强度低磁性织构金属NiW合金基带的研究

介绍了几种制备高强度、低磁性、表面具有锐利双轴织构的金属NiW基带的思路和工艺路线,并表征了其性能。结果表明,所获得的Ni7W以及一系列Ni基复合基带的立方织构分别同商业的Ni5W基带相当或较好,而强度和磁性均较Ni5W基带有较大改善。而且其制备思路和手段作为一种行之有效的方案,也为进一步优化NiW合金基带乃至其他合金基带的性能提供了依据。

轧制温度对Ni-9.3%W合金基带形变组织和织构的影响

采用背散射电子衍射技术(EBSD)对Ni-9.3%W(Ni9W)合金基带沿截面方向上的形变织构和形变组织进行分析,研究轧制温度对形变组织和织构的影响.结果表明:采用温轧工艺能够有效抑制Ni9W合金基带黄铜型织构的形成,增加Copper(C)取向和S取向的体积分数,使Ni9W合金基带的变形机制以滑移为主.同时,温轧能够有效降低基带中剪切带的体积分数,并提高40°〈111〉晶界的体积分数,有利于立方晶粒的长大.

涂层导体用立方织构Ni基带的电化学抛光

大变形量加工及随后再结晶热处理制备的立方织构Ni及其合金带材广泛用于YBa2Cu3O7-x(YBCO)涂层导体的基带。隔离层及YBCO涂层的生长要求基带提供光滑的表面。但由于国内轧制水平的限制,轧制-再结晶基带的表面无法满足工艺使用的要求,必须通过表面处理改善基带表面质量。选用电化学抛光工艺提高基带表面质量,主要研究抛光液成分和抛光电流密度对抛光质量的影响。结果表明,磷酸含量85%,甘油含量15%,添加剂含量4 ml.L-1时,抛光效果最好。抛光后基带的最大表面粗糙度小于9 nm。

制备高温超导涂层导体的技术路线分析

钇系高温超导涂层导体具备优异的超导性能,有广泛的应用前景,因此成为国际上的研究热点之一。近年来涂层导体长带的研制在日本和美国等国家取得了巨大进展,目前主要的技术路线为离子束辅助沉积(IBAD)和轧制辅助双轴织构基带(RABiTS)2种,其中IBAD技术路线的使用更为广泛而且产品性能处于领先地位。基于对上述2种技术路线进行的对比分析研究,介绍了目前世界范围内主要研究单位的进展情况,并对这2种技术路线在涂层导体结构的3个基本部分(金属基带、过渡层、超导层)的制备情况进行了具体对比分析。

利用脉冲激光沉积技术在双轴织构的Ni基带上外延CeO_2薄膜

利用脉冲激光沉积技术在氢还原气氛下成功地在双轴织构的Ni基带上外延了高质量的CeO2薄膜.x射线衍射θ—2θ扫描和ω扫描结果表明,CeO2薄膜在Ni基带上呈c轴方向生长,存在很强的平面外织构;极图和φ扫描显示它具有良好的平面内织构.Ni基片上织构的CeO2薄膜为进一步在其上外延高质量的YBa2Cu3O7-x超导薄膜提供了很好的模板.

定向电镀-涂层导体织构化基带低成本制备的潜在途径

高昂的基带制备成本是限制涂层导体大规模应用的主要障碍。对电镀Ag中取向变化进行了研究分析。研究结果表明,当电镀电流密度较低时(趋于0),镀膜以(220)织构为主,与基片的织构基本一致;当电镀电流密度较高时,样品延密排面(111)择优取向。在此基础上,利用自主研制的定向电镀原理性装置在Cu基片上电镀出(200)取向的双轴织构的Ag层。这些结果为涂层导体织构化基带的制备提供新的可能途径。

RABiTS法涂层导体镍基带的研究进展

轧制辅助双轴织构基带(RABiTS)法是一种经济、高效的生产第二代高温超导涂层导体基带的方法。综述了适用于RABiTS方法的第二代高温超导涂层导体镍基带的研究现状与最新进展,系统分析了合金元素、变形工艺、热处理工艺等对各种镍基带获得立方织构的影响,评述和展望了适用于RABiTS方法的第二代高温超导涂层导体镍基带的发展前景。