期刊文献+
共找到1篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
高纯八甲基环四硅氧烷制备工艺研究进展 被引量:1
1
作者 段超 赵旭 +5 位作者 郭树虎 万烨 常欣 孙强 赵宇 张晓伟 《化工管理》 2020年第4期177-178,196,共3页
高纯八甲基环四硅氧烷广泛应用于光通讯行业,更是集成电路等电子工业生产中不可缺少的基础和支撑材料之一。文章重点介绍了高纯八甲基环四硅氧烷(D4)的除杂提纯工艺,包括精馏法、络合精馏法、结晶-真空抽滤法、金属去除剂除杂法,分析了... 高纯八甲基环四硅氧烷广泛应用于光通讯行业,更是集成电路等电子工业生产中不可缺少的基础和支撑材料之一。文章重点介绍了高纯八甲基环四硅氧烷(D4)的除杂提纯工艺,包括精馏法、络合精馏法、结晶-真空抽滤法、金属去除剂除杂法,分析了各个方法的优点及限制其广泛应用的制约因素,最后展望了高纯八甲基环四硅氧烷提纯除杂技术未来的发展方向。 展开更多
关键词 八甲基环四硅氧烷 精馏 络合精馏 结晶真空抽滤 金属去除剂
下载PDF
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部