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缓冲溶液沉淀法制备氧化镁稳定氧化锆纳米粉体
被引量:
2
1
作者
苏存萍
林元华
+3 位作者
邓旭亮
胡晓阳
马琦
王勇
《稀有金属材料与工程》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2009年第A02期319-321,共3页
以ZrOCl2.8H2O、MgCl2为原料,NH3.H2O为沉淀剂,采用缓冲溶液沉淀法制备MgO-ZrO2前驱体粉体。通过差热分析、X射线衍射、透射电镜等对所得粉体进行测定分析。结果表明:获得了粒径10~20nm淡黄色氧化镁稳定的氧化锆陶瓷(MgO-ZrO2)粉体。...
以ZrOCl2.8H2O、MgCl2为原料,NH3.H2O为沉淀剂,采用缓冲溶液沉淀法制备MgO-ZrO2前驱体粉体。通过差热分析、X射线衍射、透射电镜等对所得粉体进行测定分析。结果表明:获得了粒径10~20nm淡黄色氧化镁稳定的氧化锆陶瓷(MgO-ZrO2)粉体。在稳定剂浓度为10mol/L时,可获得纯的四方相氧化锆纳米粒子,有望用于口腔齿科材料中。
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关键词
缓冲溶液沉淀法
MgO—ZrO2
稳定剂
下载PDF
职称材料
题名
缓冲溶液沉淀法制备氧化镁稳定氧化锆纳米粉体
被引量:
2
1
作者
苏存萍
林元华
邓旭亮
胡晓阳
马琦
王勇
机构
北京大学口腔医学院
清华大学新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室
佳木斯大学口腔医学院
出处
《稀有金属材料与工程》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2009年第A02期319-321,共3页
基金
国家高技术研究发展("863")计划
(2007AA03Z328766
2009AA03Z422)
文摘
以ZrOCl2.8H2O、MgCl2为原料,NH3.H2O为沉淀剂,采用缓冲溶液沉淀法制备MgO-ZrO2前驱体粉体。通过差热分析、X射线衍射、透射电镜等对所得粉体进行测定分析。结果表明:获得了粒径10~20nm淡黄色氧化镁稳定的氧化锆陶瓷(MgO-ZrO2)粉体。在稳定剂浓度为10mol/L时,可获得纯的四方相氧化锆纳米粒子,有望用于口腔齿科材料中。
关键词
缓冲溶液沉淀法
MgO—ZrO2
稳定剂
Keywords
buffer solution precipitation
MgO-ZrO2
stabilizer
分类号
TB383.1 [一般工业技术—材料科学与工程]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
缓冲溶液沉淀法制备氧化镁稳定氧化锆纳米粉体
苏存萍
林元华
邓旭亮
胡晓阳
马琦
王勇
《稀有金属材料与工程》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2009
2
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