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未来半导体器件及集成电路中纳米线的制作
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作者 罗家强 程开富 郭锋 《半导体情报》 1997年第1期48-51,共4页
介绍了线宽小于10nm 的多晶硅缝隙纳米线的制作技术。缝纳线技术适用于制作量子器件、光电器件和集成电路。
关键词 缝隙纳米线 制作 集成电路
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