硅片缺陷粒径分布的分形特征及动力学模型

本文研究硅片上与光刻工艺相关的尘粒（缺陷）的粒径分布，分析缺陷粒径分布的分形特征，利用缺陷粒径的分布函数得到缺陷粒径体系的分维数，建立缺陷粒径分布的分形模型，同时给出此模型所得参数的物理意义．最后，本文对缺陷粒径变化过程给出了新的动力学模型，并对此进行分析和讨论．揭示光刻缺陷的粒径分布及其动力学成因，为集成电路可制造性设计及功能成品率的精细表征开辟了一条新径．

结合版图结构信息的基本门电路故障概率估计

在门级电路可靠性估计方法中,基本门的故障概率P一般采用经验值或人为设定.本文结合基本门的版图结构信息,综合考虑了设计尺寸及缺陷特性等因素,分析了不同缺陷模型下的粒径分布数据,给出了缺陷模型粒径概率密度分布函数的参数c的计算算法,并推导出了P的计算模型.理论分析与在ISCAS85及74系列电路上的实验结果表明,缺陷的分段线性插值模型能较准确地描述电路可靠性模型的低层真实缺陷.对ISCAS85基准电路采用本文方法所得到的电路可靠度与采用美国军用标准MIL-HDBK-217方法所得到的计算结果进行了比较,验证了本文所建P模型的合理性.

65—90nm技术节点的WCA模型和提取算法

在90nm和65nm技术节点,集成电路制造业的投资剧增而随机成品率却在下降低.为了提升随机成品率,带权关键面积的(WCA)计算和排序是关键.文中基于数学形态学提出了一种随机缺陷轮廓的WCA新模型,该模型不仅考虑了90nm和65nm工艺中缺陷在布线区域和空白区域的不同密度,而且也考虑了缺陷在粒径上的分布特性;同时还设计并实现了与新模型对应的WCA提取与排序算法,部分版图上的实验结果表明新WCA可以作为版图优化的代价函数,从而为随机缺陷的版图优化提供了精确依据.