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高层间距的羟基硅铝交联蒙托土的合成与表征
被引量:
6
1
作者
赵东源
王国甲
+1 位作者
杨亚书
郭燮贤
《高等学校化学学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
1992年第3期295-299,共5页
采用溶胶分散法合成了一系列高层间距(2.6nm)的羟基硅铝交联蒙托土(SiAl-CLM),并用^(27)Al NMR、XRD、DTA、XPS、吡啶吸附-IR、正丁胺吸附-TPD等技术进行了表征,用脉冲反应技术考察了其催化活性。结果表明:SiAl-CLM层间存在氧化硅胶团...
采用溶胶分散法合成了一系列高层间距(2.6nm)的羟基硅铝交联蒙托土(SiAl-CLM),并用^(27)Al NMR、XRD、DTA、XPS、吡啶吸附-IR、正丁胺吸附-TPD等技术进行了表征,用脉冲反应技术考察了其催化活性。结果表明:SiAl-CLM层间存在氧化硅胶团与羟基铝聚体形成的复合Si-Al柱.SiAl-CLM的热稳定性较好,对异丙苯的裂解活性(76.8%)较高。Si的引入增加了交联蒙托土的表面酸性,尤其增加了Bronsted酸性。
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关键词
蒙托土
羟基硅铝交联
合成
表征
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职称材料
题名
高层间距的羟基硅铝交联蒙托土的合成与表征
被引量:
6
1
作者
赵东源
王国甲
杨亚书
郭燮贤
机构
吉林大学化学系
中国科学院大连化学物理研究所
出处
《高等学校化学学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
1992年第3期295-299,共5页
文摘
采用溶胶分散法合成了一系列高层间距(2.6nm)的羟基硅铝交联蒙托土(SiAl-CLM),并用^(27)Al NMR、XRD、DTA、XPS、吡啶吸附-IR、正丁胺吸附-TPD等技术进行了表征,用脉冲反应技术考察了其催化活性。结果表明:SiAl-CLM层间存在氧化硅胶团与羟基铝聚体形成的复合Si-Al柱.SiAl-CLM的热稳定性较好,对异丙苯的裂解活性(76.8%)较高。Si的引入增加了交联蒙托土的表面酸性,尤其增加了Bronsted酸性。
关键词
蒙托土
羟基硅铝交联
合成
表征
Keywords
Cross-linked, Montmorillonite, Pillared clay, Synthesis, Characterization
分类号
TQ424.21 [化学工程]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
高层间距的羟基硅铝交联蒙托土的合成与表征
赵东源
王国甲
杨亚书
郭燮贤
《高等学校化学学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
1992
6
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