NH_3/HTMS气相法改性SiO_2增透膜的耐环境稳定性

溶胶-凝胶法制备的二氧化硅增透膜因具有极低的折射率与较高的激光损伤阈值而被广泛应用于高功率激光系统中。但是,激光系统工作环境中的水汽及挥发性有机污染物极易污染薄膜。本研究以正硅酸四乙酯为前驱体,氨水为催化剂,乙醇为溶剂制备了碱性催化的单分散SiO_2溶胶。采用提拉法在BK7玻璃基板表面镀制了SiO_2薄膜,并对薄膜进行氨水气氛以及HTMS气氛联合处理改性。改性后的薄膜表现出了极佳的耐环境稳定性,在高湿环境下放置2个月后膜层峰值透过率仅下降0.03%,在低真空二甲基硅油污染环境下放置2个月后透过率光谱几乎无变化。NH_3/HTMS气相法联合处理可以有效延长SiO_2增透膜在高功率激光系统中的工作寿命。