聚甲基丙烯酸二甲氨基乙酯纳滤膜的制备

为了提高聚甲基丙烯酸二甲氨基乙酯(PDM)纳滤膜的渗透分离性能,以聚醚砜(PES)超滤膜为基层膜材料,PDM水溶液为涂层材料,1,3,5-三溴甲基苯(TBB)环己烷溶液为交联剂材料进行界面聚合,制备了PDM/PES复合纳滤膜。考察了制膜工艺对膜渗透分离性能的影响,并用SEM、XPS对膜结构进行表征。结果表明在涂层液PDM质量分数为0.6%,涂层时间为30 s,交联剂溶液TBB浓度为40 mmol/L,交联时间30 s下制备的纳滤膜具有较好的渗透分离性能,对MgSO 4截留率可达91.17%,通量为31.63 L/(m^(2)·h)。

聚氯代对亚苯基二亚甲基的化学气相沉积聚合及表征

用化学气相沉积(CVD)聚合法制备的聚氯代对亚苯基二亚甲基(PPX-C)膜,除了具有聚对亚苯基二亚甲基(PPX)膜的保形涂覆和物理性能外,还具有更好的粘附能力。研究表明:PPX-C膜具有优异的耐溶剂性和抗化学氧化性能;氯的引入使膜的玻璃化转变温度降低,室温柔性增强,动态力学阻尼性能增大,热降解起始温度比PPX膜低,主链降解温度与PPX膜相近。此外,氯的引入对膜的亲水性能影响不大,但膜的水汽渗透率却因此明显降低,与PPX膜相比PPX-C膜具有更好的防潮性能。

三甲基间苯二胺型聚酰亚胺薄膜的制备与性能研究

采用2,4,6-三甲基间苯二胺(TMmPDA)、4,4′-二氨基二苯醚(DADPE)和3,3′,4,4′-四羧基联苯二酐(BP-DA)为原料,合成得到了三甲基间苯二胺型聚酰胺酸(TMPAA)溶液,经涂膜、热亚胺化,制得了三甲基间苯二胺型聚酰亚胺(TMPI)薄膜,并对其性能进行了研究。结果表明:三甲基间苯二胺型聚酰亚胺薄膜具有良好的光学透明性、较低的介质损耗、良好的疏水性能,比含羧基聚酰亚胺薄膜具有更好的柔韧性和更高的断裂拉伸强度。

书画档案的聚一氯对二甲基苯涂层防护性研究

利用化学气相沉积法在书画表面形成聚一氯对二甲基苯薄膜,通过测定接触角推测膜的憎水性,研究不同工艺参数条件下膜的防护性能.结果表明,聚一氯对二甲基苯膜具有良好的连续性,使书画基材的吸湿增重缓慢;膜的憎水性与膜厚度成正比关系;膜对水汽的透过能力很低,能够使书画在常温大湿度条件下具有良好的防潮防护性能.

2,5-双(氯甲基)噻吩和间-二氯甲基苯的缩聚反应

采用合成聚苯硫醚的方法,研究了2,5-双(氯甲基)噻吩(DCMT)、间-二氯甲基苯(DCMB)和硫化物的共聚反应,对聚合物做了红外光谱分析测定,计算并分析了含硫量与DCMT和DCMB的摩尔组成的关系以及成膜性能试验.

聚乳酸/聚己二酸二甘醇酯/甲基丙烯酸甲酯-丁二烯-苯乙烯共聚物生物降解薄膜的制备及性能

采用甲基丙烯酸甲酯-丁二烯-苯乙烯共聚物(MBS)对聚乳酸(PLA)进行增韧改性,增韧后的PLA再与增塑剂聚己二酸二甘醇酯(PDEGA)熔融共混挤出并吹膜。将PDEGA的质量分数固定为8%,改变PLA和MBS的比例,探讨了不同含量的MBS对PLA/PDEGA/MBS薄膜力学性能、光学性能、流变性能以及结晶性能的影响,用扫描电镜观察薄膜撕裂断面形态,用偏光显微镜观察PLA的结晶形貌。结果表明,加入PDEGA后,薄膜的Tg下降了近8℃,Tcc下降了约17℃;随着MBS的不断加入,拉伸强度、撕裂强度分别在25MPa和120kN/m以上,PLA薄膜的断裂伸长率由PLA的3.5%提高到薄膜的40%以上,薄膜的模量、黏度都有所增加;随着MBS含量的增加,PLA球晶的边界逐渐变得模糊,球晶数量增加,球晶尺寸明显变小,但PLA的结晶类型没有改变;薄膜保持了良好的透明性和降解性。

四溴汞(Ⅱ)酸钾-异辛基苯二聚乙二醇醚二甲基苄基氯化铵的共振散射光谱及其分析应用

在pH 2～8的溶液中,四溴汞(Ⅱ)酸钾和异辛基苯二聚乙二醇醚二甲基苄基氯化铵(BTC)反应生成离子缔合物,在390 nm处有一共振散射峰,峰强度随汞(Ⅱ)质量浓度的增加而增大,据此建立了测定痕量汞的新方法.在实验条件下,此法测定汞(Ⅱ)的线性范围是14～240 μg/L,检出限为5 μg/L,已用于合成水样和环境水样中汞(Ⅱ)的测定.

聚一氯对二甲基苯膜的制备与光学特性

以一氯对二甲基苯二聚体为原料,通过真空化学气相沉积法制备聚一氯对二甲基苯(Parylene C)膜,对该高分子膜材料的光学性能进行了研究。

聚一氯对二甲基苯膜的热稳定性与介电特性

以一氯对二甲基苯二聚体为原料,通过真空化学气相沉积法制备聚一氯对二甲基苯（Parylene C）膜,对该高分子薄膜材料的热稳定性和介电性能进行研究.通过DSC测得Parylene C膜的玻璃化转变温度为85℃,熔点为300℃,且Parylene C膜在不同的升温速率都表现出很好的热稳定性.测定膜厚为0.05 mm的介电常数为2.35,通过对绝缘性能的分析,以膜厚0.05 mm为测试基准.当蒸发温度在75~115℃,裂解温度在675~680℃时,介电强度达到5 500 V/mm,证明在合适的工艺条件下,Parylene C膜有很好的绝缘性.

胶束电动毛细管色谱法同时测定复方化学消毒剂及日化产品中邻苯二甲醛、对氯间二甲基苯酚及三氯生

建立了邻苯二甲醛(OPA)、对氯间二甲基苯酚(PCMX)和三氯生3种杀菌剂同时分离测定的胶束电动毛细管色谱(MEKC)新方法。详细研究了影响上述3种杀菌剂同时分离与准确定量的因素:如分离缓冲溶液的浓度及pH,十二烷基硫酸钠(SDS)浓度、样品缓冲溶液等。以40.2 cm(有效长度:30 cm)×50μm未涂层熔融石英毛细管为分离柱,20 mmol/L硼砂-80 mmol/L SDS(无需调pH)为分离缓冲溶液,2 mmol/L硼砂-8 mmol/L SDS(含体积分数为10%甲醇)为样品缓冲溶液,检测波长为214 nm。3种杀菌剂的校正峰面积的相对标准偏差(RSD)在1.1%～3.8%范围内,迁移时间的RSD均小于0.9%,OPA、PCMX和三氯生的检出限(LOD,信噪比为3)分别为4.0、0.4、0.4 mg/L,定量限(LOQ,信噪比为10)分别为12、1.2、1.2 mg/L,校正峰面积与相应的质量浓度分别在12～2000 mg/L、1.2～200 mg/L和1.2～200 mg/L范围内具有良好的线性关系,相关系数分别为0.999 4、0.999 3和0.999 5。该法前处理简单,可快速、准确地同时测定3种组分,非常适合常规实验室分析。

1,3-双(4-氨基-2-三氟甲基苯氧基)苯及其无色透明聚酰亚胺薄膜的制备与性能研究

以间苯二酚和2-氯-5-硝基三氟甲苯为基本原料,在N,N-二甲基甲酰胺溶剂中,经亲核取代反应制得1,3-双(4-硝基-2-三氟甲基苯氧基)苯(DNRes-2TF),并利用Pd/C、水合肼进一步还原得到1,3-双(4-氨基-2-三氟甲基苯氧基)苯(DARes-2TF)。随后,以该二胺和芳香族二酐在N,N-二甲基乙酰胺(DMAc)溶剂中,聚合得到聚酰胺酸溶液,热亚胺化得到无色透明聚酰亚胺薄膜,并对薄膜性能进行了研究。结果表明:含氟取代基及间位取代结构是制备无色透明聚酰亚胺的一条颇具前途的路线,且不会牺牲材料的耐热稳定性及力学性能。

1,3-苯并二茂的微胶束催化氯甲基化新技术

Benzodioxole was monochloromethylated directly by aqueous formaldehyde and hydrogen chloride gas in CCl4 in the presence of quaternary ammonium salts: C16H33-（CH3）3NX（X=Br,Cl）, C12H25（CH3）3NCl,C12H25（CH3）2（C6H5CH2）NCl and （C4H9）4NBr. With hexadecyltrimethylammonium bromide at temperature 6065 ℃ and for 15 hours of reaction, 1,3-benzodioxole was converted to piperonyl chloride with conversion more than 98% and selectivity up to 97%. The method has advantages of high selectivity, high conversion, negligible by-products and easy workup of the main product.

对-双(二甲基-羟基硅基)苯及其缩聚物的合成

以二甲基二氯硅烷及对二溴苯等为主要原料,经历三个反应步骤合成了对-双(二甲基-羟基硅基)苯,所有中间产物的分子结构均用1H-NMR确证。首次采用辛酸己胺作催化剂,将对-双(二甲基-羟基硅基)苯进行缩聚,获得了聚四甲基对硅亚苯基硅氧烷;研究了聚合时间以及催化剂用量对聚合物特性粘数的影响,并用1H-NMR及X射线衍射对聚合物进行了表征。

含氯取代基的聚间苯二甲酰间苯二胺的合成与表征

以 2 ,5 -二氯对苯二甲酰氯作为第三单体 ,将其与间苯二甲酰氯、间苯二胺在N ,N -二甲基乙酰胺中进行低温溶液共缩聚反应 ,合成了含氯取代基的聚间苯二甲酰间苯二胺。研究了单体摩尔浓度、反应初始温度、叔胺添加剂种类、第三单体用量等对共聚物相对分子质量的影响 ,并用红外光谱、热重分析等方法对共聚物进行了表征。

4,4′-二胺甲基联苯搭桥的二苯并-18-冠-6环状二聚体的合成

在高度稀释条件下 ,二酰氯 (1)与二氨基二苯并 18 冠 6 (2 )反应 ,以高收率生成大环二酰胺 (3) ,3在甲苯溶剂中用SMEAH[二 (2 甲氧乙氧基 )二氢化钠铝 ]还原得到目标化合物——— 4,4′ 二胺甲基联苯搭桥的二苯并 18 冠 6环状二聚体 (4 ) .在吡啶溶剂中 4与 [6 0 ]富勒烯有弱的π 电子给体 -受体相互作用 .

聚对苯(撑)二甲基膜的化学气相沉积(CVD)聚合

采用化学气相沉积(CVD)聚合工艺制备的对苯撑二甲基聚合物可广泛应用在航天、航空、军工、电子、生物医学工程、控制系统、文物保护、纳米材料和磁性材料等诸多领域。综述了聚对苯(撑)二甲基系列膜的化学气相沉积聚合工艺和原理,介绍了底物温度和沉积舱压力等主要因素对膜沉积率的影响和膜的一些主要性能,并讨论了典型的Parylene N膜的光氧降解性能。

2-(4-三氟甲基苯氧基)对苯二甲酰氯的合成与表征

在KOH和K2CO3存在下，通过对氯三氟甲苯（PCTFB）和2，5．二甲基苯酚在N-甲基吡咯烷酮（NMP）中的缩合反应制得了2-（4．三氟甲基苯氧基）对二甲苯（TFDMB），该步最佳的反应条件为：PCTFB与2，5．二甲基苯酚的摩尔比为1：1．2，反应时间为8h，反应温度为140-190℃，TFDMB的产率达93．7％．TFDMB继而用KMn04作氧化剂分别在吡啶、NaOH的水溶液中经两步氧化制得关键中间体2-（4．三氟甲基苯氧基）对苯二甲酸（仰A），产率为75％；再将TFPA和氯化亚砜反应以92％的产率合成了聚合单体2-（4．三氟甲基苯氧基）对苯二甲酰氯（TFTPC），三步总收率为64．6％．

基于双-(3,4-苯二甲酸酐)二甲基硅烷共聚酰亚胺的合成及表征(英文)

由双 (3,4 苯二甲酸酐 )二甲基硅烷、均苯四甲酸酐和 4 ,4′ 二氨基二苯醚制备了含硅聚酰胺酸 .通过溶液浇铸方法制得聚酰胺酸薄膜 ,经热处理将其转化为聚酰亚胺薄膜 .X 衍射测量表明 ,该类型聚酰亚胺具有非晶态结构 ,且规整性随双 (3,4 苯二甲酸酐 )二甲基硅烷含量的增加而减少 .含硅共聚酰亚胺与传统均苯四甲酸酐 /4,4′ 二氨基二苯醚聚酰亚胺相比 ,呈现较低的玻璃化转变温度和分解温度 ,但共聚酰亚胺中双 (3,4 苯二甲酸酐 )二甲基硅烷含量增加将导致薄膜的透光率增加 .

聚对苯撑二甲基系列涂层的制备及其应用进展

介绍了聚对苯撑二甲基系列涂层的制备方法和成膜机理 ,讨论了化学气相沉积聚合的主要特点 ,阐明了Parylene膜的结构与性能的关系以及几种常用Parylene膜的性能特点 。

叔胺作为HCl吸收剂对间苯二胺与间苯二甲酰氯缩聚反应的影响

研究了各种叔胺作为聚间苯二甲酰间苯二胺 (PMIA)合成反应中HCl的吸收剂对PMIA分子量的影响 .结果表明 ,在PMIA树脂合成中加入添加剂α -甲基吡啶 ,对提高PMIA分子量作用明显 .探索了高分子量PMIA树脂稳定的生产工艺 ,并用红外光谱。