聚噻吩的后修饰与光电性质

为了解决Kumada催化剂转移缩聚(Kumada catalyst transfer polycondensation,KCTP)反应构建的聚噻吩材料结构单一、能级较高等问题,通过KCTP法成功实现了含有4个噻吩单元与硫醚侧链单体的聚合,构建了含有硫代烷基侧链的新型聚噻吩材料(PtTSBO),并通过控制氧化剂间氯过氧苯甲酸(m-CPBA)的用量和反应温度,将侧链上的硫醚选择性地氧化为亚砜或砜基,制备了含有亚砜或砜基的PtTSBO(PtTSOBO或PtTSOOBO)。通过核磁共振氢(1H-NMR)谱、元素分析(EA)、紫外-可见分光(UV-Vis)光谱和电化学(CV)曲线对聚合物的结构、吸光和电学性能进行了表征,并对所制备的光伏器件进行了光电性质研究。结果表明,这种后修饰策略有效地将硫醚官能团转变为强吸电子基团,相比于PtTSBO,聚合物PtTSOBO和PtTSOOBO的能级显著降低,相应光伏器件的开路电压(Voc)得到了提升。

含吲哚侧基聚苯乙烯的合成及其后修饰

通过可逆加成-断裂链转移(RAFT)聚合合成了一种含吲哚侧基的聚苯乙烯.在B(C6F5)3的催化下,硅烷与吲哚C3位的选择性硅烷化反应实现了所得聚苯乙烯的后修饰.聚合物通过GPC和1H-NMR表征,证明在不破坏聚苯乙烯主链的情况下,聚合物侧链引入了C3硅烷化吲哚侧基.在选用位阻较小的苯基二甲基硅烷(PhMe2SiH)进行修饰时,所得聚苯乙烯的硅烷化吲哚侧基的嵌入率可达50%.在选用含四苯乙烯的硅烷进行修饰时,所得聚苯乙烯的硅烷化吲哚侧基嵌入率可达38%,且具有聚集诱导发光(AIE)性质.

重氮化合物在高分子合成化学中的应用进展

重氮化合物的转化反应在有机合成中已经得到深入的发展,人们基于此希望将其应用范围进一步延伸至高分子合成化学.将重氮化合物的高效有机反应发展成高分子聚合方法,对于实现结构新颖且具有应用价值的聚合物的合成具有重要的意义.目前,这一领域仍存在较大的发展空间,本综述将对近年来重氮化合物在高分子合成化学中应用进行总结,包括链式聚合、逐步聚合、聚合物末端官能化和聚合物后修饰等四个方面,最后对重氮化合物在高分子合成领域所存在的挑战进行展望.