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一种利用梯度光掩模制备梯度表面的简便方法
被引量:
4
1
作者
汪炉林
马育红
+1 位作者
周昊
杨万泰
《高分子学报》
SCIE
CAS
CSCD
北大核心
2011年第5期509-515,共7页
以自制杂化双向拉伸聚丙烯/氧化硅(BOPP/SiOx)有机/无机杂化膜为基材,由喷墨打印机直接在杂化膜表面打印色阶图案,制备出对紫外光强度呈梯度透过的梯度光掩模;通过此掩模控制,在双向拉伸聚丙烯(BOPP)和聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)表面实...
以自制杂化双向拉伸聚丙烯/氧化硅(BOPP/SiOx)有机/无机杂化膜为基材,由喷墨打印机直接在杂化膜表面打印色阶图案,制备出对紫外光强度呈梯度透过的梯度光掩模;通过此掩模控制,在双向拉伸聚丙烯(BOPP)和聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)表面实施受限光催化氧化(CPO)光感应羟基化反应、受限光接枝丙烯酸(AA)以及表面沉淀紫外光接枝丙烯酰胺(AM)聚合反应.全反射红外光谱(ATR-FTIR)、X射线光电子能谱(XPS)、水接触角、荧光显微镜及扫描电镜(SEM)分析表明,分别得到表面能、接枝层厚度及接枝链密度呈梯度分布的功能性梯度表面.
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关键词
梯度
光掩模
受限光催化氧化反应
光接枝
聚合物梯度表面
丙烯酰胺
丙烯酸
原文传递
题名
一种利用梯度光掩模制备梯度表面的简便方法
被引量:
4
1
作者
汪炉林
马育红
周昊
杨万泰
机构
北京化工大学碳纤维及功能高分子教育部重点实验室
北京化工大学材料科学与工程学院
出处
《高分子学报》
SCIE
CAS
CSCD
北大核心
2011年第5期509-515,共7页
基金
长江学者和创新团队发展计划(项目号ITT0706)资助项目
文摘
以自制杂化双向拉伸聚丙烯/氧化硅(BOPP/SiOx)有机/无机杂化膜为基材,由喷墨打印机直接在杂化膜表面打印色阶图案,制备出对紫外光强度呈梯度透过的梯度光掩模;通过此掩模控制,在双向拉伸聚丙烯(BOPP)和聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)表面实施受限光催化氧化(CPO)光感应羟基化反应、受限光接枝丙烯酸(AA)以及表面沉淀紫外光接枝丙烯酰胺(AM)聚合反应.全反射红外光谱(ATR-FTIR)、X射线光电子能谱(XPS)、水接触角、荧光显微镜及扫描电镜(SEM)分析表明,分别得到表面能、接枝层厚度及接枝链密度呈梯度分布的功能性梯度表面.
关键词
梯度
光掩模
受限光催化氧化反应
光接枝
聚合物梯度表面
丙烯酰胺
丙烯酸
Keywords
Gradation photomask
CPO reaction
Photo-induced graft polymerization
Polymer gradient surfaces
Acrylamide
Acrylic acid
分类号
TQ320.7 [化学工程—合成树脂塑料工业]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
一种利用梯度光掩模制备梯度表面的简便方法
汪炉林
马育红
周昊
杨万泰
《高分子学报》
SCIE
CAS
CSCD
北大核心
2011
4
原文传递
已选择
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