聚对苯撑二甲基系列涂层的制备及其应用进展

介绍了聚对苯撑二甲基系列涂层的制备方法和成膜机理 ,讨论了化学气相沉积聚合的主要特点 ,阐明了Parylene膜的结构与性能的关系以及几种常用Parylene膜的性能特点 。

聚对苯(撑)二甲基膜的化学气相沉积(CVD)聚合

采用化学气相沉积(CVD)聚合工艺制备的对苯撑二甲基聚合物可广泛应用在航天、航空、军工、电子、生物医学工程、控制系统、文物保护、纳米材料和磁性材料等诸多领域。综述了聚对苯(撑)二甲基系列膜的化学气相沉积聚合工艺和原理,介绍了底物温度和沉积舱压力等主要因素对膜沉积率的影响和膜的一些主要性能,并讨论了典型的Parylene N膜的光氧降解性能。

化学气相沉积聚合制备聚乙酰基对苯撑二甲基及其性能的研究

通过化学气相沉积(CVD)聚合法合成了聚乙酰基对苯撑二甲基,采用红外光谱(FTIR)证实了二聚体和气相沉积聚合物的化学结构.与聚对苯撑二甲基聚合物相比引入乙酰基后聚合物的溶解性、介电常数和损耗因子均有所提高.将红外光谱与热重(TG)分析相结合研究了聚合物膜的热降解性能,表明聚乙酰基对苯撑二甲基的热降解基本上经历3个阶段,首先是乙酰基降解,接着是连接苯环的亚甲基,最后是苯环的降解.尽管聚乙酰基对苯撑二甲基的初始热降解温度低于聚对苯撑二甲基,但仍有普通热塑性高分子材料的热稳定性.聚乙酰基对苯撑二甲基是一类优良的、具有一定极性从而具有较好底物附着力的敷形涂层材料.

聚乙酰基对苯撑二甲基的合成及其热降解性能的研究

通过化学气相沉积（CVD）聚合法合成了聚乙酰基对苯撑二甲基，采用红外光谱（FTIR）证实了二聚体和气相沉积聚合物的化学结构，并用热重分析（TGA）法研究了聚合物膜的热降解性能，结果表明聚乙酰基对苯撑二甲基的热降解基本上经历乙酰基降解、连接苯环的亚甲基和苯环的降解3个阶段。尽管聚乙酰基对苯撑二甲基的初始热降解温度低于聚对苯撑二甲基，但仍有普通热塑性高分子材料的热稳定性。聚乙酰基对苯撑二甲基是一类优良的、具有一定极性从而具有较好底物附着力的敷形涂层材料。

2,6-二羟基-3,5-二硝基甲苯的合成新工艺

以2,6-二氯甲苯为原料经过硝化反应获得2,6-二氯-3,5-二硝基甲苯（DCDNT）,纯度为99.79%（HPLC,下同）,收率98.40%;再经亲核取代反应制得2,6-二甲氧基-3,5-二硝基甲苯（DMDNT）,纯度为96.90%,收率88.36%;最后在硫酸中酸性脱甲基反应合成MDNR,纯度为99.40%,收率93.15%。MDNR的结构经过FTIR、MS、-1HNMR定性和表征,总收率可达80%以上,操作方便。

Parylene薄膜紫外光老化的研究进展

简要介绍了Parylene薄膜的优异性能以及主要应用范围。综述了国内外对Parylene薄膜在紫外光照射条件下老化行为的最新研究进展。讨论了紫外光老化的机理、主要现象、产物,以及老化对Parylene薄膜光学性能、透湿透气性能、力学性能、电磁学性能的影响。