微透镜压模阵列一步制造法

介绍制造微透镜压模阵列的新方法，采用聚焦离子束蚀刻（FIBM）将压模阵列制作在一块Si片上，用激光干涉仪测量所制造压模的2－D轮廓和表面粗糙度，最后用压模阵列进行热压花模压，压模和复制件的表面粗糙度分别为2.5nm和8nm。表面粗糙度定义为距粗糙度轮廓中线绝对距离的算术平均值。复制件轮廓能满足实际应用。所测的复制件尺寸与所设计阵列的尺寸相当一致。