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低损耗聚合物光波导反应离子刻蚀工艺的研究
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作者 郭琦 尤向阳 《三门峡职业技术学院学报》 2024年第2期134-140,共7页
反应离子刻蚀是聚合物光波导制备过程中的一项关键工艺。通过改变射频功率RF、反应腔室压强以及混合气体组成与配比等参数研究对波导刻蚀的影响因素,利用台阶仪、金相显微镜和扫描电子显微镜(SEM)观测波导形貌,找到了表面毛糙度小、侧... 反应离子刻蚀是聚合物光波导制备过程中的一项关键工艺。通过改变射频功率RF、反应腔室压强以及混合气体组成与配比等参数研究对波导刻蚀的影响因素,利用台阶仪、金相显微镜和扫描电子显微镜(SEM)观测波导形貌,找到了表面毛糙度小、侧壁平滑、垂直度优和刻蚀速率适中的最优刻蚀工艺参数,研究成果为制备低损耗的聚合物光波导器件奠定了良好的基础。 展开更多
关键词 RIE刻蚀 聚合物光波 毛糙度 刻蚀速率
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感应耦合等离子体刻蚀在聚合物光波导制作中的应用 被引量:9
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作者 张琨 岳远斌 +2 位作者 李彤 孙小强 张大明 《中国光学》 EI CAS 2012年第1期64-70,共7页
提出了利用感应耦合等离子体(ICP)刻蚀技术提高聚合物光波导器件性能的方法,介绍了ICP刻蚀技术的原理和优点。选取聚甲基丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸环氧丙酯(P(MMA-GMA))作为波导材料,采用氧气作为刻蚀气体,研究了ICP参数变化对刻蚀效果的... 提出了利用感应耦合等离子体(ICP)刻蚀技术提高聚合物光波导器件性能的方法,介绍了ICP刻蚀技术的原理和优点。选取聚甲基丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸环氧丙酯(P(MMA-GMA))作为波导材料,采用氧气作为刻蚀气体,研究了ICP参数变化对刻蚀效果的影响。介绍了倒脊形光波导的制备过程,采用改变单一工艺参数的方法,分析了刻蚀效果随时间、功率、压强、气体流量等参数的变化,对参数优化后刻蚀得到的凹槽和平板结构进行了表征。实验结果表明:在天线射频功率为300 W,偏置射频功率为30 W,气体压强为0.5 Pa,氧气流速为50 cm3/min的条件下,可获得侧壁陡直、底面平整的P(MMA-GMA)凹槽结构。 展开更多
关键词 聚合物光波 倒脊形光波 感应耦合等离子体(ICP)刻蚀
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有机聚合物光波导制作工艺综述 被引量:6
3
作者 刘涛 李志山 +2 位作者 蒋志 杨敏 王书荣 《激光与红外》 CAS CSCD 北大核心 2015年第6期599-604,共6页
有机聚合物光波导光互连已成为实现短距离计算通信设计目标的最佳解决方法。短距离光互连是未来互连方向,综合性能优良的聚合物多模光波导是光互连中的重要组成部分。有机聚合物光波导的制作工艺对光波导的性能具有重要影响,故此对有机... 有机聚合物光波导光互连已成为实现短距离计算通信设计目标的最佳解决方法。短距离光互连是未来互连方向,综合性能优良的聚合物多模光波导是光互连中的重要组成部分。有机聚合物光波导的制作工艺对光波导的性能具有重要影响,故此对有机聚合物光波导的制作工艺进行了综述,并提出了一些未来的研发方向。 展开更多
关键词 聚合物光波 光波制作工艺 光损耗
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利用双光子聚合技术制备的聚合物型光栅光波导和耦合光栅 被引量:5
4
作者 于晓强 张献 +6 位作者 许贵宝 赵华平 何畏 邵宗书 蒋民华 孙渝明 刘恩泉 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2004年第10期1931-1933,共3页
Two ternary materials systems, which comprise two-photon initiators, oligomer and poly(methyl methacrylate), were prepared. A polymeric waveguide film was manufactured by spinning the materials on ITO, and the two-pho... Two ternary materials systems, which comprise two-photon initiators, oligomer and poly(methyl methacrylate), were prepared. A polymeric waveguide film was manufactured by spinning the materials on ITO, and the two-photon initiated photopolymerization(TPIP) was carried out successfully in the waveguide film. Consequently, an approach using TPIP is demonstrated for fabrication of grating in a thin polymeric film possessing waveguide properties. The results show that the resulted grating can manipulate and couple light. 展开更多
关键词 双光子聚合技术 聚合物 光栅光波 耦合光栅 集成光学器件
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低偏振相关损耗聚合物光波导(英文) 被引量:3
5
作者 周骏 黄咏娴 +3 位作者 潘裕斌 沈玉全 赵玉霞 贾振红 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第2期205-208,共4页
表征了新合成的热光聚合物bisphenol A-aldehyde resin(BPA-resin)的独特性质。并且利用光刻和反应离子刻蚀技术(RIE)制备成功BPA-resin聚合物的单模条波导.实验结果表明,对于TE和TM偏振,该聚合物波导在1.31μm和1.55μm波长下分别有低... 表征了新合成的热光聚合物bisphenol A-aldehyde resin(BPA-resin)的独特性质。并且利用光刻和反应离子刻蚀技术(RIE)制备成功BPA-resin聚合物的单模条波导.实验结果表明,对于TE和TM偏振,该聚合物波导在1.31μm和1.55μm波长下分别有低达0.43 dB/cm和0.51 dB/cm的传播损耗.在上述波长下,波导的低偏振相关损耗(PDL)小于0.1 dB/cm.因此,是制备可调热光器件的良好导波模快. 展开更多
关键词 聚合物 光波 热光效应 偏振相关损耗
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脊形聚合物光波导制备及理论分析 被引量:4
6
作者 邢汝冰 张学亮 +1 位作者 张平 高福斌 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第1期80-84,共5页
报道了利用铝膜作掩模 ,通过紫外光照射制备键合型聚合物DANS PMMA脊形光波导的新方法。所制备的聚合物脊形光波导 ,其形状与通常的脊形波导相同 ,但内部折射率又与矩形波导类似。从理论上推导出该脊形波导的模式本征值方程 ,并给出相... 报道了利用铝膜作掩模 ,通过紫外光照射制备键合型聚合物DANS PMMA脊形光波导的新方法。所制备的聚合物脊形光波导 ,其形状与通常的脊形波导相同 ,但内部折射率又与矩形波导类似。从理论上推导出该脊形波导的模式本征值方程 ,并给出相应的归一化通用曲线 ,可以供相应波导设计和制备作为参考。 展开更多
关键词 脊形聚合物光波 本征值方程 聚合物薄膜 铝膜掩模 紫外光照射 归一化通用曲线
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CCD 摄象法测量有机聚合物光波导传输损耗 被引量:6
7
作者 蒋毅 曹庄琪 陈英礼 《上海交通大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第10期42-44,共3页
研究了一种测量有机聚合物光波导传输损耗的方法——CCD摄象法.通过对波导传输线进行数字成像,根据传输线上的光强分布拟合出光强传输衰减曲线,计算出波导的传输损耗.与传统方法相比,本方法具有操作简便,测量准确的优点.
关键词 有机聚合物 光波 传输损耗 CCD摄象法
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光漂白法制备聚合物光波导透镜的实验研究 被引量:6
8
作者 贾振红 周红 吴树荣 《激光杂志》 CAS CSCD 北大核心 1999年第1期38-39,42,共3页
本文研究了用光漂白方法制备PMMA/DRI聚合物光波导的条件,并在实验上实现了发散和会聚波导透镜,可明显的改变在波导内传播光束的方向。
关键词 光漂白 PMMA/DRI 聚合物薄膜 透镜 光波
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基于BaLuF_5∶Yb^(3+),Er^(3+)纳米晶掺杂的聚合物光波导放大器 被引量:3
9
作者 张美玲 尹姣 +4 位作者 张永玲 王艳双 曲春阳 赵丹 王菲 《吉林大学学报(信息科学版)》 CAS 2015年第2期132-136,共5页
为提高聚合物光波导放大器的增益性能,利用高温法合成了Ba Lu F5∶Yb3+,Er3+纳米晶,并分别对纳米晶的形貌、晶体结构和近红外发射特性进行了表征。测试结果表明,纳米晶平均粒径为13 nm,并在1 530 nm处具有较强的发射,荧光半高宽为50 nm... 为提高聚合物光波导放大器的增益性能,利用高温法合成了Ba Lu F5∶Yb3+,Er3+纳米晶,并分别对纳米晶的形貌、晶体结构和近红外发射特性进行了表征。测试结果表明,纳米晶平均粒径为13 nm,并在1 530 nm处具有较强的发射,荧光半高宽为50 nm。将合成的纳米晶掺杂入SU-8聚合物作为光波导放大器的芯层材料,使用光刻显影等工艺,在表面长有二氧化硅的硅衬底上制备出了聚合物光波导放大器。当980 nm波长泵浦光功率为280 m W、信号光波长为1 530 nm且功率为0.1 m W时,在长度为1.1 cm的光波导放大器中,获得了3.95 d B的相对增益。 展开更多
关键词 光波放大器 BaLuF5:Yb3+ E3+纳米晶 聚合物 增益特性
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全聚合物SU8光波导制备工艺及其特性研究 被引量:1
10
作者 孔光明 鄂书林 +2 位作者 邓文渊 赵虎旦 郭洪波 《半导体光电》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第5期662-665,共4页
对一种全聚合物SU8光波导的制备工艺和波导特性进行了研究。测试结果显示,所制备光波导在1550 nm的传输损耗为2.01 dB/cm,且具有高的侧壁陡直度。详细研究了光波导制备工艺过程中前烘温度和时间、光刻时间、后烘温度和时间以及显影时间... 对一种全聚合物SU8光波导的制备工艺和波导特性进行了研究。测试结果显示,所制备光波导在1550 nm的传输损耗为2.01 dB/cm,且具有高的侧壁陡直度。详细研究了光波导制备工艺过程中前烘温度和时间、光刻时间、后烘温度和时间以及显影时间等工艺参数对波导质量的影响,给出了4.5μm×4.0μm尺寸单模波导制备的优化工艺。讨论了采用稀释后的SU8材料所制备的光波导出现侧蚀的原因以及改进的方法。 展开更多
关键词 聚合物 SU8光波 光刻 工艺参数
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M-Z型极化DANS聚合物电光波导强度调制器研究 被引量:1
11
作者 高福斌 杜国同 +1 位作者 张平 邢汝冰 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第5期646-649,共4页
研究了Mach-Zehnder型极化聚合物电光波导强度调制器的制备工艺·器件采用DANS(4-dimethylamino-4′nitro-stlibene)聚合物为电光波导材料,由电光波导层、上下介质缓冲层、上下金属电极层构成五层波导结构·对五层光波导各层之... 研究了Mach-Zehnder型极化聚合物电光波导强度调制器的制备工艺·器件采用DANS(4-dimethylamino-4′nitro-stlibene)聚合物为电光波导材料,由电光波导层、上下介质缓冲层、上下金属电极层构成五层波导结构·对五层光波导各层之间的光学、化学以及微加工工艺的相互兼容性进行了深入研究·采用紫外光漂白方法制备出侧壁光滑的条波导,采用钨丝电晕极化方法对DANS聚合物波导进行有效极化,使其具有电光特性·通过优化器件制备工艺,研制出工作波长为1300nm的M-Z型电光波导强度调制器原型器件·实验测得器件半波电压约为10V,调制带宽约为1GHz· 展开更多
关键词 DANS聚合物 电晕极化 紫外光漂白 光波 强度调制器
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基于KMnF_3∶Yb^(3+),Er^(3+)纳米晶的红光聚合物平面光波导放大器 被引量:1
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作者 曲春阳 黄雅莉 +5 位作者 张永玲 张美玲 赵丹 王希斌 王菲 张大明 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第3期353-358,共6页
制作了基于KMnF_3∶Yb^(3+),Er^(3+)纳米晶材料的工作波长655 nm的聚合物平面光波导放大器。材料的吸收光谱表明,KMnF_3∶Yb^(3+),Er^(3+)纳米晶在980 nm附近有很强的吸收。在980 nm激光的激发下,由于Er^(3+)和Mn2+能级之间的能量传递,K... 制作了基于KMnF_3∶Yb^(3+),Er^(3+)纳米晶材料的工作波长655 nm的聚合物平面光波导放大器。材料的吸收光谱表明,KMnF_3∶Yb^(3+),Er^(3+)纳米晶在980 nm附近有很强的吸收。在980 nm激光的激发下,由于Er^(3+)和Mn2+能级之间的能量传递,KMnF_3∶Yb^(3+),Er^(3+)纳米晶产生了很强的红色上转换发光。根据KMnF_3∶Yb^(3+),Er^(3+)纳米粒子的发光特性,制备了KMnF_3∶Yb^(3+),Er^(3+)NCs-PMMA复合材料,用其作为芯层设计了掩埋形结构光波导放大器,利用传统的半导体工艺完成器件制备。器件测试结果表明,当655 nm信号光功率为0.1 m W、980 nm泵浦功率为260 m W时,器件获得了2.7 d B的相对增益。 展开更多
关键词 纳米粒子 聚合物 光波放大器 上转换发光
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掺铒聚合物光波导放大器的数值分析 被引量:2
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作者 禹忠 韦玮 侯洵 《光学与光电技术》 2005年第5期12-15,共4页
针对掺铒聚合物光波导放大器(EDWA),提出了一种基于Douglas离散格式改进的有限差光束传播法(FD-BPM)的数值计算方法。对每一传输步长结合多能级速率方程计算出EDWA中光场传输强度分布,及掺铒光波导放大器的增益传输特性。设计并研究了... 针对掺铒聚合物光波导放大器(EDWA),提出了一种基于Douglas离散格式改进的有限差光束传播法(FD-BPM)的数值计算方法。对每一传输步长结合多能级速率方程计算出EDWA中光场传输强度分布,及掺铒光波导放大器的增益传输特性。设计并研究了掺铒聚合物通道波导和Y形分束器的放大增益特性。在掺铒聚合物直波导中,Er3+浓度为9.0×1025ions·m-3,输入信号和泵浦光功率分别为1μW和2mW,其增益为1.6dB/cm;在掺铒聚合物Y形分束器中,输出信号光分束比相等,并能实现无损耗分束。 展开更多
关键词 掺铒光波放大器 光束传播法 聚合物
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光漂白法制备聚合物X连接型非线性光波导 被引量:1
14
作者 贾振红 《半导体光电》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第3期186-187,192,共3页
研究了用光漂白方法制备PMMA/DR1聚合物X连接型非线性波导。将波长为10 64nm的YAG脉冲激光通过光纤耦合到波导中 ,研究了波导两端口光波模式转换情况 ,并观察到了光信号的自开关效应。材料的非线性折射率和双光子吸收影响了自开关强度... 研究了用光漂白方法制备PMMA/DR1聚合物X连接型非线性波导。将波长为10 64nm的YAG脉冲激光通过光纤耦合到波导中 ,研究了波导两端口光波模式转换情况 ,并观察到了光信号的自开关效应。材料的非线性折射率和双光子吸收影响了自开关强度的大小。 展开更多
关键词 光漂白 聚合物薄膜 X连接型波 非线性光波
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制作聚合物光波导的铝掩模工艺
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作者 赵禹 张大明 +2 位作者 刘式墉 衣茂斌 卢东昕 《半导体光电》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第3期208-211,共4页
主要针对聚合物波导制备中的关键技术———刻蚀掩模,进行了系统的研究。以铝为例,利用原子力显微镜和光电子能谱,详细地分析并讨论了在聚合物表面溅射镀铝对芯层波导的影响。明确指出,溅射会在聚合物表面形成一层金属包层,从而在器件... 主要针对聚合物波导制备中的关键技术———刻蚀掩模,进行了系统的研究。以铝为例,利用原子力显微镜和光电子能谱,详细地分析并讨论了在聚合物表面溅射镀铝对芯层波导的影响。明确指出,溅射会在聚合物表面形成一层金属包层,从而在器件中引入额外的吸收损耗并对此进行了计算,同时给出解决的办法。最后,总结出最佳的工艺流程。 展开更多
关键词 聚合物 光波 刻蚀掩模 磁控溅射
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低损耗有机聚合物光波导的制备
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作者 沈启舜 仇琳琳 +6 位作者 蒋毅 曹庄琪 陈英礼 刘燕刚 黄德音 应杰 朱子康 《大连理工大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第S2期78-78,共1页
低损耗有机聚合物光波导的制备沈启舜仇琳琳蒋毅曹庄琪陈英礼(上海交通大学应用物理系200240)刘燕刚黄德音应杰朱子康(上海交通大学应用化学系200240)电光聚合物具有低介电常数和大电光系数等特点,所以由它制成的电光... 低损耗有机聚合物光波导的制备沈启舜仇琳琳蒋毅曹庄琪陈英礼(上海交通大学应用物理系200240)刘燕刚黄德音应杰朱子康(上海交通大学应用化学系200240)电光聚合物具有低介电常数和大电光系数等特点,所以由它制成的电光调制器的品质因数将明显优于目前正处... 展开更多
关键词 有机聚合物光波 低损耗 上海交通大学 非线性光学性质 平面光波 电光调制器 双棱镜耦合 电晕极化法 侧链型 聚酰亚胺
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基于斜极化法的电光聚合物光波导偏振转换器
17
作者 杨建义 江晓清 +1 位作者 王明华 Ray T.Chen 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第11期1217-1221,共5页
采用斜极化法研制了电光聚合物光波导偏振转换器 ,分析并设计了器件的 4 5°斜角电极化结构 ,并基于 DR1/PMMA电光聚合物材料 ,对器件进行了制作 .所研制的偏振转换器 ,由 TE模到 TM模和由 TM模到 TE模的偏振模转换效率分别约为 93.... 采用斜极化法研制了电光聚合物光波导偏振转换器 ,分析并设计了器件的 4 5°斜角电极化结构 ,并基于 DR1/PMMA电光聚合物材料 ,对器件进行了制作 .所研制的偏振转换器 ,由 TE模到 TM模和由 TM模到 TE模的偏振模转换效率分别约为 93.6 %和 95 .1% ,偏振转换周期电压约为 380 V. 展开更多
关键词 集成光学 有机聚合物 光波 电光效应 偏振转换
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聚合物脊型光波导的有限元分析 被引量:1
18
作者 曾维友 毛书哲 陈伟 《湖北汽车工业学院学报》 2012年第3期49-51,共3页
利用有限元法分析了聚合物脊型光波导的基模及高阶模的色散特性和横向场分布,研究了芯层厚度、脊高和脊宽等结构参数对色散特性的影响,计算结果表明,在芯层厚度小于1.3μm、脊宽小于5μm、脊高小于0.2μm时,波导将形成单模传输。
关键词 有限元法 有机聚合物 脊型光波 TM模
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聚合物光波导端面磁流变抛光工艺(英文)
19
作者 彭文强 吴宇列 +1 位作者 刘勇 冯宗杰 《纳米技术与精密工程》 EI CAS CSCD 2011年第4期364-369,共6页
光波导端面的表面质量会严重影响光波导器件的光耦合封装性能,耦合封装前必须对波导器件端面进行抛光处理.目前聚合物光波导端面主要依靠传统研磨盘进行抛光处理,该工艺工序复杂、抛光效率低已成为制约聚合物波导器件应用的瓶颈.基于聚... 光波导端面的表面质量会严重影响光波导器件的光耦合封装性能,耦合封装前必须对波导器件端面进行抛光处理.目前聚合物光波导端面主要依靠传统研磨盘进行抛光处理,该工艺工序复杂、抛光效率低已成为制约聚合物波导器件应用的瓶颈.基于聚合物光波导材料优良的加工特性,通过对比实验提出了聚合物光波导的磁流变端面抛光工艺.采用5μm、0.5μm和1μm粒径的氧化铈抛光粉分别配制研磨盘抛光液及磁流变抛光液对3 mm×3 mm聚合物光波导端面进行抛光实验,发现磁流变加工对聚合物光波导端面进行一次2 m in光栅扫描抛光就具有比传统研磨盘约3 h精、粗抛光较好的端面质量.经过白光干涉仪测量,磁流变抛光后光波导端面表面粗糙度的均方根值达到了2.6 nm,传统端面抛光端面粗糙度均方根值为128.7 nm.通过自动对准耦合平台测试,结果显示通过磁流变端面抛光的光波导的插入损耗由抛光前的32.7 dB降低到了17.8 dB.磁流变抛光方法可以对聚合物光波导端面进行快速、高性能的抛光,在光波导应用领域具有非常广阔的应用前景. 展开更多
关键词 磁流变抛光(MRF) 聚合物光波 端面抛光 表面粗糙度 插入损耗
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聚合物光栅光波导器件的微复制技术
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作者 刘月明 张少君 《传感技术学报》 CAS CSCD 北大核心 2010年第10期1408-1411,共4页
采用纳米压印微复制技术方法,研制了一种新型的聚合物柔性光栅光波导敏感器件,该器件可用于介入式医用导管的微弯挠曲监测或类似场合的微变形监测。重点阐述了聚合物柔性光栅光波导器件的微复制模具和器件微复制的工艺方法,并对制备工... 采用纳米压印微复制技术方法,研制了一种新型的聚合物柔性光栅光波导敏感器件,该器件可用于介入式医用导管的微弯挠曲监测或类似场合的微变形监测。重点阐述了聚合物柔性光栅光波导器件的微复制模具和器件微复制的工艺方法,并对制备工艺技术中的关键技术问题进行了讨论,讨论了测试光纤耦合一体化光栅波导器件的工艺方法。最后利用硅微模具和紫外固化介质材料,成功制备出了截面尺寸为4μm×20μm、光栅周期为0.75μm的聚合物柔性光栅光波导器件。 展开更多
关键词 聚合物 光栅光波 微复制工艺 微挠曲监测
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