期刊导航
期刊开放获取
河南省图书馆
退出
期刊文献
+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
检索
高级检索
期刊导航
共找到
1
篇文章
<
1
>
每页显示
20
50
100
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
显示方式：
文摘
详细
列表
相关度排序
被引量排序
时效性排序
采用紫外激光引发聚合乙炔基三甲基硅烷常压化学气相沉积聚碳硅烷薄膜
1
作者
彭补之
《材料保护》
CAS
CSCD
北大核心
2003年第4期77-77,共1页
关键词
紫外激光
引发
聚
合
乙炔基三甲基
硅
烷
常压化学气相沉积
聚碳硅烷薄膜
下载PDF
职称材料
题名
采用紫外激光引发聚合乙炔基三甲基硅烷常压化学气相沉积聚碳硅烷薄膜
1
作者
彭补之
出处
《材料保护》
CAS
CSCD
北大核心
2003年第4期77-77,共1页
关键词
紫外激光
引发
聚
合
乙炔基三甲基
硅
烷
常压化学气相沉积
聚碳硅烷薄膜
分类号
TQ324.21 [化学工程—合成树脂塑料工业]
TQ153 [化学工程—电化学工业]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
采用紫外激光引发聚合乙炔基三甲基硅烷常压化学气相沉积聚碳硅烷薄膜
彭补之
《材料保护》
CAS
CSCD
北大核心
2003
0
下载PDF
职称材料
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
上一页
1
下一页
到第
页
确定
用户登录
登录
IP登录
使用帮助
返回顶部
