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磁控共溅射法在聚碳酸酯柔性基底镀TiN研究
1
作者
邓爱民
梁佳静
张国家
《电镀与精饰》
CAS
北大核心
2019年第5期1-3,共3页
在较低的温度下,采用磁控溅射工艺在聚碳酸酯(PC)表面制备了TiN薄膜。应用激光共聚焦显微镜(CLSM)和X射线衍射仪(XRD)等研究了薄膜制备工艺对薄膜的表面微观形貌和晶质成分影响。结果表明:随着基底温度的升高,溅射的薄膜厚度和表面粗糙...
在较低的温度下,采用磁控溅射工艺在聚碳酸酯(PC)表面制备了TiN薄膜。应用激光共聚焦显微镜(CLSM)和X射线衍射仪(XRD)等研究了薄膜制备工艺对薄膜的表面微观形貌和晶质成分影响。结果表明:随着基底温度的升高,溅射的薄膜厚度和表面粗糙度增大。溅射的薄膜中,晶粒呈圆锥形,随着N_2含量的增加,溅射的薄膜粗糙度逐渐下降,晶粒较小,分布较均匀。XRD衍射结果表明,溅射的薄膜晶质成分为TiN。
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关键词
氮化钛薄膜
聚碳酸酯基体
磁控溅射
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职称材料
题名
磁控共溅射法在聚碳酸酯柔性基底镀TiN研究
1
作者
邓爱民
梁佳静
张国家
机构
沈阳理工大学材料科学与工程学院
出处
《电镀与精饰》
CAS
北大核心
2019年第5期1-3,共3页
文摘
在较低的温度下,采用磁控溅射工艺在聚碳酸酯(PC)表面制备了TiN薄膜。应用激光共聚焦显微镜(CLSM)和X射线衍射仪(XRD)等研究了薄膜制备工艺对薄膜的表面微观形貌和晶质成分影响。结果表明:随着基底温度的升高,溅射的薄膜厚度和表面粗糙度增大。溅射的薄膜中,晶粒呈圆锥形,随着N_2含量的增加,溅射的薄膜粗糙度逐渐下降,晶粒较小,分布较均匀。XRD衍射结果表明,溅射的薄膜晶质成分为TiN。
关键词
氮化钛薄膜
聚碳酸酯基体
磁控溅射
Keywords
titanium nitride thin film
polycarbonate substrates
magnetron sputtering
分类号
TN304 [电子电信—物理电子学]
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作者
出处
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1
磁控共溅射法在聚碳酸酯柔性基底镀TiN研究
邓爱民
梁佳静
张国家
《电镀与精饰》
CAS
北大核心
2019
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