苯乙烯基噻吩单体及对应的聚脲烷的合成及其非线性光学性能

一种新型的反式－７－［４－Ｎ，Ｎ－二（β－羟基乙基胺基苯）］－３，５－二硝基乙烯基－噻吩（ＨＢＤＴ）单体分子及对应的预聚物和聚脲烷被合成和表征．由于噻吩环的电子去局域化能量低于苯环，在受授有机共轭化合物中噻吩环比苯环表现出更有效的共轭和更高的非线性，同时也能使目标分子保持好的光、热稳定性．该单体分子及其对应的聚脲烷在普通有机溶剂中具有良好的可溶性，聚脲烷膜具有好的热稳定性．制备了高质量的聚脲烷膜并进行了电晕极化．单体在甲醇中的紫外可见吸收峰（５３０ｎｍ）与对应未经电晕极化聚脲烷膜的吸收峰基本上没有改变．通过溶剂变色法及简并四波混频（ＤＦＷＭ）法测试了单体的二阶和三阶非线性极化率，其βμ，χ（３）和γ值分别为８．４４３×１０－４５ｅｓｕ，１．０１６×１０－１２ｅｓｕ（ｃ＝３．９６×１０－３ｍｏｌ／Ｌ），３．

N-甲基吡咯烷酮合成技术

N-甲基吡略烷酮主要应用于聚合反应的溶剂(如聚酰胺、聚酰亚胺、聚脲烷等)、合成纤维的纺丝熔剂、功能性树脂加工成膜的溶剂、碳氢化合物高选择性萃取溶剂(如乙炔，丁烯等)及润滑油精剂等。

改进的有机二阶非线性光学材料的合成及光子应用方面的加工

分析了电光调制器的发展前景和有机、无机、半导体材料目前在器件中所起的作用和地位 ,以此基础上 ,设计并合成了一种新的反式 7 [4 N ,N 二 (β 羟基乙基胺基苯 ) 3,5 二硝基乙烯基 噻吩 (HBDT)单体非线性发色团 ,并将其键合到母体分子中形成了对应的聚脲烷 ,该单体分子及其对应的聚脲烷在普通有机溶剂中具有良好的可溶性 ,聚脲烷膜具有好的热稳定性。

彩色镀层在酸性环境中耐候性的研究

两组分涂层以聚脲烷丙烯酸盐（PU）或含氧化铁云母（MIO）的环氧树脂为基础，含PU和MIO或氧化铝的单一组分被广泛用作钢铁件的高耐蚀性层。研究了这些涂层在空气和水中的耐蚀性，这种涂层能够在pH值约为3的环境中提供保护。