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题名两种耐高温紫外正型光刻胶成膜树脂的制备及性能
被引量:4
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作者
刘建国
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机构
华中科技大学武汉光电国家实验室激光与太赫兹功能实验室
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出处
《影像科学与光化学》
CAS
CSCD
北大核心
2012年第5期330-337,共8页
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基金
国家自然科学基金面上项目(51172081)
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文摘
分别通过N-(p-羟基苯基)甲基丙烯酰胺与N-苯基马来酰亚胺、N-苯基甲基丙烯酰胺与N-(p-羟基苯基)马来酰亚胺的共聚合,制备了两种聚合物树脂聚N-(p-羟基苯基)甲基丙烯酰胺共N-苯基马来酰亚胺(poly(HPMA-co-PMI))和聚N-苯基甲基丙烯酰胺共N-(p-羟基苯基)马来酰亚胺(poly(MPA-co-HPMI)).结果表明,这两种聚合物都是按1∶1的摩尔比交替共聚的,它们都具有良好的溶解性、成膜性和亲水性,并且它们的玻璃化温度Tg都在280℃以上.将它们分别与感光剂2,1,5-磺酰氯的衍生物、助剂二苯甲酮等复配成两种紫外正型光刻胶,初步光刻实验表明,其最大分辨率都可以达到1μm,并且都可以耐270℃的高温.
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关键词
紫外正型光刻胶
成膜树脂
耐热性
聚n-(p-羟基苯基)甲基丙烯酰胺共n-苯基马来酰亚胺
聚n-苯基甲基丙烯酰胺共n-(p-羟基苯基)马来酰亚胺
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Keywords
UV positive photoresist matrix resin thermostability poly ((n- (p-hydroxyphe- nyl) methacrylamide)-co-(n-phenylmaleimide) ) ~ poly( (n-phenylmethacrylamide)- co- (n- (p-hydroxyphenyl) maleimide) )
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分类号
TN305.7
[电子电信—物理电子学]
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