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SiC肖特基栅JFET功率特性的研究 被引量:2
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作者 张林 肖剑 +1 位作者 谷文萍 邱彦章 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 2012年第4期556-559,共4页
提出了一种新型结构的SiC结型场效应晶体管,采用肖特基接触替代P+型栅区,以降低SiC JFET的工艺复杂度,并提高器件的功率特性。建立了器件的数值模型,对不同材料和结构参数下的功率特性进行了仿真。结果表明,与PN结栅相比,肖特基栅结构... 提出了一种新型结构的SiC结型场效应晶体管,采用肖特基接触替代P+型栅区,以降低SiC JFET的工艺复杂度,并提高器件的功率特性。建立了器件的数值模型,对不同材料和结构参数下的功率特性进行了仿真。结果表明,与PN结栅相比,肖特基栅结构可以有效降低SiC JFET的开态电阻;与常规结构的双极模式SiC JFET相比,在SiC肖特基栅JFET的栅极正偏注入载流子,同样可以有效降低器件的开态电阻,折中器件的正反向特性,但不会延长开关时间。 展开更多
关键词 碳化硅 结型场效应晶体管 肖特基栅
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肖特基栅型共振隧穿晶体管的制作研究
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作者 胡留长 郭维廉 +2 位作者 张世林 梁惠来 宋瑞良 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2007年第1期28-31,共4页
已研制成了肖特基栅共振隧穿晶体管,在双势垒结构上蒸发铂金形成栅。通过调制准二维电子积累层的面积进而达到控制隧穿电流的目的。并对发射极正反接电压不同而出现的不同调制现象进行了分析。
关键词 共振隧穿晶体管 肖特基栅 负阻
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肖特基栅共振隧穿三极管(SGRTT)的器件模拟
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作者 宋瑞良 毛陆虹 +2 位作者 郭维廉 梁惠来 张世林 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2006年第3期290-294,共5页
使用Atlas软件模拟了肖特基栅共振隧穿三极管。通过改变发射极长度、栅极金属和上层AlAs势垒的距离以及靠近AlAs势垒的GaAs层浓度,得到器件耗尽区边界以及所对应的I-V特性,由此分析和解释了器件结构参数对器件特性的影响,最后对器件在... 使用Atlas软件模拟了肖特基栅共振隧穿三极管。通过改变发射极长度、栅极金属和上层AlAs势垒的距离以及靠近AlAs势垒的GaAs层浓度,得到器件耗尽区边界以及所对应的I-V特性,由此分析和解释了器件结构参数对器件特性的影响,最后对器件在电路中的应用予以说明。 展开更多
关键词 肖特基栅共振隧穿三极管 器件模拟 单稳-双稳转换逻辑电路单元
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自对准栅金刚石MESFET器件研究
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作者 周建军 柏松 +5 位作者 陈刚 孔岑 耿习娇 陆海燕 孔月婵 陈堂胜 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2013年第1期28-31,85,共5页
基于表面氢化处理的金刚石材料,利用自对准栅工艺技术研制了p型金刚石肖特基栅场效应晶体管(MESFET)。利用AFM和Raman测试方法对材料的特性进行了测试及分析。同时,对研制的金刚石MESFET器件进行了TLM以及直流特性测试及性能分析。利用... 基于表面氢化处理的金刚石材料,利用自对准栅工艺技术研制了p型金刚石肖特基栅场效应晶体管(MESFET)。利用AFM和Raman测试方法对材料的特性进行了测试及分析。同时,对研制的金刚石MESFET器件进行了TLM以及直流特性测试及性能分析。利用TLM方法测试获得的表面氢化处理金刚石材料的方阻和Au欧姆接触比接触电阻率分别为4kΩ/□和5.24×10-4Ω.cm2。研制的1μm栅长金刚石MESFET器件的最大电流在-5V偏压下达到10mA/mm以上。 展开更多
关键词 金刚石 肖特基栅场效应晶体管 表面氢化
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一种新型介质槽隔离SiCOIMESFET
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作者 龚欣 张进城 郝跃 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2005年第1期60-64,共5页
提出了一种新型的 Si COIMESFET器件结构 ,即介质槽隔离 Si COIMESFET。模拟结果表明 ,新型结构器件与常规平面 Si COI MESFET器件相比 ,击穿电压得到很大提高 ,从 3 80 V提高到近 1 1 0 0 V,而饱和漏电流和跨导下降。但通过器件结构的... 提出了一种新型的 Si COIMESFET器件结构 ,即介质槽隔离 Si COIMESFET。模拟结果表明 ,新型结构器件与常规平面 Si COI MESFET器件相比 ,击穿电压得到很大提高 ,从 3 80 V提高到近 1 1 0 0 V,而饱和漏电流和跨导下降。但通过器件结构的优化设计可以保障在击穿电压提高的同时漏电流和跨导不会发生大的退化。该器件结构为高温、抗辐照和大功率集成电路研制打下基础。 展开更多
关键词 绝缘体上碳化硅 肖特基栅场效应晶体管 介质槽隔离 击穿电压
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Simulation and Experimental Research on a Schottky Gate Resonant Tunneling Transistor
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作者 宋瑞良 毛陆虹 +1 位作者 郭维廉 余长亮 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第6期1062-1065,共4页
A Schottky gate resonant tunneling transistor (SGRTT) is fabricated. Relying on simulation by ATLAS software,we find that the gate voltages can be used to control the current of SGRTT when the emitter terminal is gr... A Schottky gate resonant tunneling transistor (SGRTT) is fabricated. Relying on simulation by ATLAS software,we find that the gate voltages can be used to control the current of SGRTT when the emitter terminal is grounded and a positive bias voltage is applied to the collector terminal. When the collector terminal is grounded, the gate voltages can control the peak voltage. As revealed by measurement results, the reason is that the gate voltages and the electric field distribution on emitter and collector terminal change the distribution of the depletion region. 展开更多
关键词 Schottky gate resonant tunneling transistor device simulation depletion region
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Threshold Voltage Model of a Double-Gate MOSFET with Schottky Source and Drain
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作者 徐博卷 杜刚 +3 位作者 夏志良 曾朗 韩汝琦 刘晓彦 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第8期1179-1183,共5页
A quasi two-dimensional (2D) analytical model of a double-gate (DG) MOSFET with Schottky source/drain is developed based on the Poisson equation.The 2D potential distribution in the channel is calculated.An expres... A quasi two-dimensional (2D) analytical model of a double-gate (DG) MOSFET with Schottky source/drain is developed based on the Poisson equation.The 2D potential distribution in the channel is calculated.An expression for threshold voltage for a short-channel DG MOSFET with Schottky S/D is also presented by defining the turn-on condition.The results of the model are verified by the numerical simulator DESSIS-ISE. 展开更多
关键词 DOUBLE-GATE Schottky barrier threshold voltage
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改进型异质栅对深亚微米栅长碳化硅MESFET特性影响
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作者 宋坤 柴常春 +3 位作者 杨银堂 贾护军 陈斌 马振洋 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2012年第17期450-457,共8页
基于器件物理分析方法,结合高场迁移率、肖特基栅势垒降低、势垒隧穿等物理模型,分析了改进型异质栅结构对深亚微米栅长碳化硅肖特基栅场效应晶体管沟道电势、夹断电压以及栅下电场分布的影响.通过与传统栅结构器件特性的对比表明,异质... 基于器件物理分析方法,结合高场迁移率、肖特基栅势垒降低、势垒隧穿等物理模型,分析了改进型异质栅结构对深亚微米栅长碳化硅肖特基栅场效应晶体管沟道电势、夹断电压以及栅下电场分布的影响.通过与传统栅结构器件特性的对比表明,异质栅结构在碳化硅肖特基栅场效应晶体管的沟道电势中引入了多阶梯分布,加强了近源端电场;另一方面,相比于双栅器件,改进型异质栅器件沟道最大电势的位置远离源端,因此载流子在沟道中加速更快,在一定程度上屏蔽了漏压引起的电势变化,更好抑制了短沟道效应.此外,研究了不同结构参数的异质栅对短沟道器件特性的影响,获得了优化的设计方案,减小了器件的亚阈值倾斜因子.为发挥碳化硅器件在大功率应用中的优势,设计了非对称异质栅结构,改善了栅电极边缘的电场分布,提高了小栅长器件的耐压. 展开更多
关键词 碳化硅 肖特基栅场效应晶体管 异质 短沟道效应
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