低能X射线标准辐射场下背散射因子的测量与研究

在40 ～60 kV的治疗水平辐射质下,对背散射因子进行了测量实验研究.所测得的背散射因子可用于相同条件下的水吸收剂量的计算.实验结果显示,在不同模体厚度下,随着模体厚度的增加,测量点处的背散射因子呈现先增大后稳定的趋势;在不同辐射野下,随着辐射野面积的增大,测量点处的背散射因子呈现增大的趋势.

Monte Carlo方法计算定量俄歇电子能谱分析中的背散射因子(英文)

本文通过Monte Carlo方法模拟计算了定量俄歇电子能谱分析(如对Ni的L3VV俄歇电子和Pt的M5N67N67俄歇电子)中的背散射因子。由于计算中结合了相关领域的各种最新进展,因此该新计算可以为定量俄歇电子能谱分析提供更为准确的参数。

10-50kV X射线水吸收剂量的测量与研究

X射线水吸收剂量是辐射剂量学的重要物理量,它的精确测量在放射治疗中至关重要。开展低能X射线水吸收剂量的研究与测量,可为完善水吸收剂量溯源体系及扩宽计量部门校准范围提供重要技术支持。确定低能X射线水吸收剂量的测量方法,在辐射场中使用PTW23344电离室对10-50 k V的治疗水平辐射质下的X射线水吸收剂量进行了测量。最终得到了电离室的水吸收剂量刻度因子N_D以及厚度为6 cm有机玻璃前表面的水吸收剂量D_W。本项工作为建立国内X射线水吸收剂量标准及进行国际比对提供了条件和基础。

俄歇电子能谱仪在氧化铜定量分析中的应用

将基体效应修正引入到俄歇电子能谱仪定量分析中,基于Monte Carlo模拟和TPP-2M模型进行了氧化铜样品中各元素背散射因子和非弹性平均自由程的计算,对氧化铜标样在相同条件下重复10次进行俄歇能谱试验。将修正因子引入到氧化铜标样的俄歇定量分析中,基体效应修正后,氧化铜中各元素含量的相对误差大大减小,俄歇定量分析的精确度有很大提高。

放疗过程中金属植入物入射面处剂量扰动影响因素的研究

目的:放射治疗过程中金属植入物会对体内剂量分布造成影响,这种影响主要表现为散射电子背向散射造成的金属植入物入射面处剂量增强和由于金属植入物阻挡造成的出射面处剂量衰减。本文主要研究金属植入物入射面处剂量增强的影响因素及作用规律。方法:利用蒙特卡罗粒子输运程序MCNP建立内部含有金属块的水箱模型,通过改变金属植入物材质、厚度、宽度、在水箱中的深度、测量点距金属表面距离以及入射光子能量、照射面积等因素参数,研究以上因素对背散射因子的影响规律,并根据射线与物质相互作用原理进行物理分析。结果:通过模拟计算得到背散射因子与以上影响因素的关系。结论:(1)背散射因子对金属植入物的材质、厚度、测量点距金属表面的距离以及入射线束的能量等因素变化较敏感,而对金属植入物在水箱中的深度、宽度以及照射面积等因素的变化不太敏感。(2)研究结果与前人实验结果相近,证明MCNP程序能够很好地用于研究金属植入物入射面处的剂量扰动问题。