期刊文献+
共找到1篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
TFT5次光刻背沟道刻蚀型与保护型工艺 被引量:2
1
作者 辛玉洁 于春崎 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2008年第12期1080-1083,共4页
5次光刻工艺(简称5PEP)是一种新的研究,分为背沟道刻蚀型和背沟道保护型。5PEP改变了TFT结构和原理,相对于常用的7 PEP可缩短生产周期,减少使用设备,提升成品率,降低成本。研究制定了背沟道刻蚀型与背沟道保护型5PEP的主要工序步骤,并通... 5次光刻工艺(简称5PEP)是一种新的研究,分为背沟道刻蚀型和背沟道保护型。5PEP改变了TFT结构和原理,相对于常用的7 PEP可缩短生产周期,减少使用设备,提升成品率,降低成本。研究制定了背沟道刻蚀型与背沟道保护型5PEP的主要工序步骤,并通过50.8 mm液晶屏多次小批量投产进行试验。探讨了刻蚀型5PEP中a-Si岛刻蚀不良、SiNx刻蚀跨断等问题。取得合理的工艺参数,使5PEP能应用于小尺寸液晶屏的TFT量产。 展开更多
关键词 薄膜晶体管 5次光刻 刻蚀 背沟道保护型 a-Si岛
下载PDF
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部