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AlN薄膜体声波谐振器性能分析 被引量:1
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作者 胡光 顾豪爽 +2 位作者 张凯 胡宽 吴小鹏 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2007年第11期44-46,共3页
采用体硅微细加工工艺制备了背空腔型AlN薄膜体声波谐振器。研究了压电层、上电极及支撑层厚度对谐振器性能的影响。测试结果表明,谐振器所用AlN压电薄膜具有(002)择优取向,器件频率特性良好。当上电极、压电层、底电极和支持层的厚度... 采用体硅微细加工工艺制备了背空腔型AlN薄膜体声波谐振器。研究了压电层、上电极及支撑层厚度对谐振器性能的影响。测试结果表明,谐振器所用AlN压电薄膜具有(002)择优取向,器件频率特性良好。当上电极、压电层、底电极和支持层的厚度分别为110,2600,110,200nm时,谐振频率为1.759GHz,机电耦合系数3.75%,品质因数79.5。结合Mason等效电路模型模拟分析与实验结果,分析了各层厚度对频率特性的影响机理。 展开更多
关键词 电子技术 薄膜体声波谐振器 氮化铝 背空腔型 Mason模
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