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题名AlN薄膜体声波谐振器性能分析
被引量:1
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作者
胡光
顾豪爽
张凯
胡宽
吴小鹏
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机构
湖北大学物理学与电子技术学院
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出处
《电子元件与材料》
CAS
CSCD
北大核心
2007年第11期44-46,共3页
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基金
国家自然科学基金资助项目(批准号:50572026)
武汉市科技攻关计划资助项目(批准号:20061002073)
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文摘
采用体硅微细加工工艺制备了背空腔型AlN薄膜体声波谐振器。研究了压电层、上电极及支撑层厚度对谐振器性能的影响。测试结果表明,谐振器所用AlN压电薄膜具有(002)择优取向,器件频率特性良好。当上电极、压电层、底电极和支持层的厚度分别为110,2600,110,200nm时,谐振频率为1.759GHz,机电耦合系数3.75%,品质因数79.5。结合Mason等效电路模型模拟分析与实验结果,分析了各层厚度对频率特性的影响机理。
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关键词
电子技术
薄膜体声波谐振器
氮化铝
背空腔型
Mason模型
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Keywords
electron technology
film bulk acoustic resonator (FBAR)
aluminum nitride (A1N)
back etching type
Mason model
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分类号
TN405
[电子电信—微电子学与固体电子学]
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