-
题名一种新型MCP离子阻挡膜制备工艺研究
- 1
-
-
作者
汪述猛
唐光华
杨炳辰
-
机构
中国电子科技集团公司第五十五研究所
-
出处
《光电子技术》
CAS
2021年第2期132-134,142,共4页
-
文摘
三代微光像增强管需在所使用的微通道板(microchannel plate,MCP)输入面制备离子阻挡膜,以阻挡正离子轰击NEA光电阴极,维持和提高器件使用寿命。为此,研究开发了一种新的MCP离子阻挡膜制备工艺,先采用专用胶体填充MCP微孔,再用电子束蒸发Al_(2)O_(3)膜,蒸发速率为0.05 nm/s,蒸镀后用异丙醇去除微孔中的胶体。实验结果表明,该工艺制备的MCP离子阻挡膜具有膜基结合强度高、通孔面积小、成像质量一致性高等优点,满足三代像增强管对MCP离子阻挡膜的要求。
-
关键词
离子阻挡膜
电子束蒸发
微通道板
Al_(2)O_(3)膜
胶体填孔
-
Keywords
ion barrier
electron beam evaporation
microchannel plate
Alumina film
filling pore with colloid
-
分类号
TN223
[电子电信—物理电子学]
-