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硅片抛光剂SiO_2溶胶的制备和性能研究
1
作者
温劲波
《稀有金属》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2000年第1期30-32,共3页
以NaOH和有机碱为介质, 制成两种乳白色碱性SiO2 溶胶, 溶胶粒径在50 ~70nm 范围, 性能稳定。当SiO2 浓度低于50% ( 质量分数)、pH=8 .5 ~11 时, 溶胶可以长时间存放而不沉淀分层。超微SiO2 ...
以NaOH和有机碱为介质, 制成两种乳白色碱性SiO2 溶胶, 溶胶粒径在50 ~70nm 范围, 性能稳定。当SiO2 浓度低于50% ( 质量分数)、pH=8 .5 ~11 时, 溶胶可以长时间存放而不沉淀分层。超微SiO2 颗粒细制成的两种SiO2 溶胶粘度低, 能通过中速滤纸。
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关键词
溶胶
胶片抛光剂
超微细
稳定
半导体
二氧化硅
下载PDF
职称材料
题名
硅片抛光剂SiO_2溶胶的制备和性能研究
1
作者
温劲波
机构
北京有色金属研究总院稀土材料国家工程研究中心
出处
《稀有金属》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2000年第1期30-32,共3页
文摘
以NaOH和有机碱为介质, 制成两种乳白色碱性SiO2 溶胶, 溶胶粒径在50 ~70nm 范围, 性能稳定。当SiO2 浓度低于50% ( 质量分数)、pH=8 .5 ~11 时, 溶胶可以长时间存放而不沉淀分层。超微SiO2 颗粒细制成的两种SiO2 溶胶粘度低, 能通过中速滤纸。
关键词
溶胶
胶片抛光剂
超微细
稳定
半导体
二氧化硅
Keywords
Polishing reagent for silicon wafers, Silica sol, Particle size, Stability
分类号
TN305.2 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
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1
硅片抛光剂SiO_2溶胶的制备和性能研究
温劲波
《稀有金属》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2000
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