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题名脉冲电刷镀镍中沉积速度的影响因素
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作者
徐炳辉
李汉
于锦
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机构
沈阳工业大学理学院
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出处
《材料保护》
CAS
CSCD
北大核心
2009年第5期47-49,共3页
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文摘
以硫酸镍为主盐、柠檬酸铵为配位剂、硫酸铈为添加剂、醋酸铵与氨水组成缓冲溶液,研究了脉冲参数和硫酸铈含量对脉冲电刷镀镍镀层沉积速度、耐腐蚀性和表面形貌的影响。结果表明:在适当的脉冲参数下,能够得到孔隙率低、致密性好的沉积层;镍镀层中没有铈共沉积;随着硫酸铈的加入,镀层沉积速度加快,镀层结晶更致密,镀层内应力减小。最佳工艺条件:245.0 g/L硫酸镍,120.0 g/L柠檬酸铵,30.0 g/L醋酸钠,140.0 g/L氨水,0.6 g/L硫酸铈,占空比55%,频率1 100 Hz,电压10 V。
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关键词
脉冲电刷镀镍
硫酸铈
脉冲参数
沉积速度
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Keywords
pulsed electro-brush plating
Ni coating
cerium sulfate
pulse parameter
deposition rate
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分类号
TQ153.2
[化学工程—电化学工业]
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