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题名脉冲参数对电铸铜组织形态和硬度的影响
被引量:9
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作者
关丽雅
郑秀华
王富耻
李树奎
王翔宇
吕广庶
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机构
北京理工大学材料科学与工程学院
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出处
《电镀与精饰》
CAS
2008年第6期1-5,共5页
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文摘
采用脉冲电源,酸性硫酸铜电铸液,研究脉冲电流密度和占空比对电铸层组织形貌及硬度的影响。结果表明,在80%占空比条件下,电流密度从3 A/dm2升高到5 A/dm2,铸层晶粒细化、平均硬度升高;而在电流密度为5 A/dm2情况下,占空比由50%提高到80%,铸层晶粒细化。在电流密度5A/dm2、占空比80%、频率200 H z条件下,可获得约600μm厚的细晶铸层,晶粒直径小于10μm。
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关键词
脉冲电铸铜
电流密度
占空比
微观结构
硬度
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Keywords
pulse electroforming copper
current density
duty cycle ratio
microstructure
hardness
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分类号
TQ153.44
[化学工程—电化学工业]
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