1
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低温等离子体辅助脉冲直流磁控溅射制备TiN薄膜 |
吕起鹏
李刚
公发全
王锋
卢俊
孙龙
金玉奇
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《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2014 |
4
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2
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氧气流量和溅射功率对脉冲直流磁控溅射制备Nb_2O_5薄膜性能的影响 |
彭寿
李刚
蒋继文
钟汝梅
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《玻璃》
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2016 |
0 |
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3
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Ar气压强对直流脉冲磁控溅射制备Mo薄膜性能的影响 |
朱继国
丁万昱
王华林
张树旺
张粲
张俊计
柴卫平
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《微细加工技术》
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2008 |
10
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4
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薄膜厚度对直流脉冲磁控溅射Mo薄膜光电性能的影响 |
朱继国
柴卫平
王华林
张树旺
刘世民
张粲
汪亚辉
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《光学仪器》
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2008 |
9
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5
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磁控溅射工艺控制模式对Cr(Mo)N涂层的影响 |
王铁钢
张雅倩
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《天津职业技术师范大学学报》
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2020 |
0 |
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6
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三靶共溅射纳米复合Cr-Al-Si-N涂层的制备及摩擦学性能研究 |
王铁钢
蒙德强
李柏松
赵彦辉
刘艳梅
姜肃猛
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《表面技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2019 |
6
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7
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脉冲反应磁控溅射氧化钒薄膜的光谱椭偏研究 |
董翔
吴志明
许向东
于贺
顾德恩
蒋亚东
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《半导体光电》
CAS
北大核心
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2015 |
0 |
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8
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深振荡磁控溅射复合沉积CrN/TiN超晶格薄膜的结构和性能 |
欧伊翔
潘伟
雷明凯
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《稀有金属材料与工程》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2018 |
3
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9
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五氧化二钽薄膜的制备及其I-U特性 |
王超
庄大明
张弓
侯亚奇
吴敏生
刘家俊
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《真空科学与技术》
CSCD
北大核心
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2003 |
4
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