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脉冲能量沉积对超声速射流/激波相互作用掺混的控制研究 被引量:3
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作者 刘凡 严红 《推进技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第6期1220-1230,共11页
为探究超声速射流掺混增强的有效控制方法,基于二维非稳态雷诺平均Navier-Stokes方程,研究了脉冲能量沉积对超声速射流与斜激波相互作用后增强掺混的控制机理和规律。宽度为5 mm的低密度平面射流同向完全膨胀射入马赫数为2.5的主流中,并... 为探究超声速射流掺混增强的有效控制方法,基于二维非稳态雷诺平均Navier-Stokes方程,研究了脉冲能量沉积对超声速射流与斜激波相互作用后增强掺混的控制机理和规律。宽度为5 mm的低密度平面射流同向完全膨胀射入马赫数为2.5的主流中,并与20°压缩斜面所产生的斜激波相互作用。在流场中引入脉冲能量沉积对射流掺混进行控制,并考虑射流马赫数、射流长度、能量沉积位置及激励频率对掺混效果的影响。对比激励流场与基础流场,结果表明:脉冲能量沉积的加入诱导射流形成大尺度涡结构,显著提高射流的掺混效果;能量沉积位置对于不同马赫数射流的掺混增强具有不同的控制效果;激励前后射流宽度的对比表明,脉冲能量沉积的无量纲激励频率在0.22附近时,可使得射流的掺混效果最佳。 展开更多
关键词 超声速射流 射流掺混 激波冲击 脉冲能量沉积
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强脉冲离子束材料表面改性研究进展 被引量:7
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作者 赵渭江 颜莎 +4 位作者 乐小云 向伟 韩宝玺 王宇钢 薛建明 《核技术》 CAS CSCD 北大核心 2003年第2期119-124,共2页
强脉冲离子束材料表面改性技术是正在发展中的新的材料表面改性技术。近四、五年来,我们围绕发展强脉冲离子束材料表面改性技术对其主要机制(强脉冲能量效应)、离子辐照诱发的热力学过程、表面熔坑现象及大面积均匀离子束技术开展了比... 强脉冲离子束材料表面改性技术是正在发展中的新的材料表面改性技术。近四、五年来,我们围绕发展强脉冲离子束材料表面改性技术对其主要机制(强脉冲能量效应)、离子辐照诱发的热力学过程、表面熔坑现象及大面积均匀离子束技术开展了比较全面的基础性研究。研究表明,强脉冲离子束改性除了离子注入的元素掺杂效应外,其更可利用强脉冲能量沉积诱发的热力学效应,有望突破离子射程对改性层厚度的限制,并高效利用离子剂量和能量,成为新一代低成本、高效率、高生产率、实用化的离子束材料改性与合成工艺。本文对于上述研究的主要进展和相关问题进行了总结和评论。 展开更多
关键词 脉冲离子束 材料表面改性 脉冲能量沉积 离子束热处理
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Direct View of Cr Atoms Doped in Anatase TiO2(001) Thin Film
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作者 唐浩奇 林岳 +2 位作者 程正旺 崔雪峰 王兵 《Chinese Journal of Chemical Physics》 SCIE CAS CSCD 2018年第1期71-76,I0001,I0002,共8页
Imaging the doping elements is doped TiO2 thin film. But it is critical for understanding the photocatalytic activity of still a challenge to characterize the interactions between the dopants and the TiO2 lattice at t... Imaging the doping elements is doped TiO2 thin film. But it is critical for understanding the photocatalytic activity of still a challenge to characterize the interactions between the dopants and the TiO2 lattice at the atomic level. Here, we use high angle annular dark- field/annular bright-field scanning transmission electron microscope (HAADF/ABF-STEM) combined with electron energy loss spectroscopy (EELS) to directly image the individual Cr atoms doped in anatase TiO2(001) thin film from [100] direction. The Cr dopants, which are clearly imaged through the atomic-resolution EELS mappings while can not be seen by HADDF/ABF-STEM, occupy both the substitutional sites of Ti atoms and the interstitial sites of TiO2 matrix. Most of them preferentially locate at the substitutional sites of Ti atoms. These results provide the direct evidence for the doping structure of Cr-doped A- TiO2 thin film at the atomic level and also prove the EELS mapping is an excellent technique for characterizing the doped materials. 展开更多
关键词 Anatase Ti02 Cr dopants Scanning transmission electron microscope Elec-tron energy loss spectroscopy Pulsed laser deposition
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