响应面法优化曲霉Asaw117脱色培养基的研究

采用响应面法对曲霉Asaw117脱色培养基成分进行了优化。首先用Plackett—Burman(PB)设计对培养基中的相关因素的效应进行评价,以脱色率为响应值,筛选出2个可信度>90%以上的硝酸钠和pH作为重要影响因素。然后利用Box-Behnken设计及响应面分析,最终确定培养基的最优组合为:硝酸钠1.39g/L、磷酸氢二钾1.25g/L、氯化钾0.625g/L、硫酸镁0.625g/L、硫酸亚铁0.01g/L、蔗糖50g/L、pH6.37,培养温度为35℃。经过优化以后,曲霉Asaw117在5g/L的染料培养基中的脱色率达到90%,比优化前的51.7%提高了1.74倍。